HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機

    國內(nèi)某 OLED 鍍膜機廠家配置伯東美國 HVA 真空閥門 11000 系列,尺寸以 4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動高真空閘閥,
     

    HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格: 

     閥門材質(zhì):

     - 閥門主體

     304 不銹鋼

     - 焊接波紋管軸封

     AM - 350

     閥門密封方式

     - 高真空

     氟橡膠

     - 高真空

     銅墊圈 / 氟橡膠

     真空:

     - 壓力范圍

     高真空 1x10-9 mbar, 高真空 1x10-10 mbar

     - 漏率

     < 2x10-9  mbar l/S

     - 差壓關(guān)閉

     1 bar ( 任意位置 )

     - 開啟前大壓力

     ≤ 30 mbar

     烘烤溫度(不含電磁閥):

     - 彈性體密封閥蓋

     150°C

     - 金屬密封閥蓋

    -開啟溫度:200°C

    -關(guān)閉值:150°C

     - 驅(qū)動方式

     手動 60 °c, 氣動 60 °c

    機制

    手動:

    手搖曲柄

    電磁閥供電電壓

     120 VAC 50 /60 Hz

    電磁閥可選電壓

     24, 200, 240 VAC 50/60 Hz
     或 12, 24 VDC

     電磁閥位置指示器,大

     115 VAC
     或 28 VDC, 20 mA

    氣動送風(fēng):

    80 psig

     使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實際使用情況決定)

     公稱通徑: DN 16 - 800 mm

     

    下圖是某 OLED 鍍膜機廠家配置上海伯東美國 HVA 高真空閥門

     

    OLED 鍍膜機主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效, ,

    對于生產(chǎn) OLED 鍍膜機的客戶, 為了節(jié)省抽空時間和防止基片的污染, 會選擇在 LOADLOCK 與主腔間進(jìn)行快速傳樣, 由于兩腔室工作的真空度要求不同, 會在腔室之間增加高真空閥門來隔離系統(tǒng).

     

    伯東美國 HVA 真空閥門已廣泛應(yīng)用于 OLED 鍍膜機
     

    若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :

    上海伯東 : 羅女士 


    伯東企業(yè)(上海)有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

  • 詞條

    詞條說明

  • 氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測

    氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測某客戶生產(chǎn)汽車過濾網(wǎng), 因高溫真空燒結(jié)爐氣密性不佳, 導(dǎo)致生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料出現(xiàn)氧化質(zhì)量問題, 經(jīng)過上海伯東推薦, 選用氦質(zhì)譜檢漏儀?ASM 340W 對真空燒結(jié)爐進(jìn)行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經(jīng)過檢漏后的真空爐, 生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料無氧化, 達(dá)到客戶工藝要求.高溫真空燒結(jié)爐氦質(zhì)譜檢漏法:金屬 (粉末)

  • HVA真空閥門成功應(yīng)用于粒子系統(tǒng)

    伯東代理的美國?HVA?真空閥門成功應(yīng)用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng).??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋管軸封?AM - 350?閥門密封方式&nb

  • KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

    上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,

  • KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

    立方氮化硼(cBN)由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

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