失效分析樣品準(zhǔn)備: 失效分析是芯片測(cè)試重要環(huán)節(jié),無(wú)論對(duì)于量產(chǎn)樣品還是設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)亦或是客退品,失效分析可以幫助降低成本,縮短周期。 常見(jiàn)的失效分析方法有Decap,X-RAY,IV,EMMI,F(xiàn)IB,SEM,EDX,Probe,OM,RIE等,因?yàn)槭Х治鲈O(shè)備昂貴,大部分需求單位配不了或配不齊需要的設(shè)備,因此借用外力,使用對(duì)外開(kāi)放的資源,來(lái)完成自己的分析也是一種很好的選擇。我們選擇去外面測(cè)試時(shí)需要準(zhǔn)備的信息有哪些呢?下面為大家整理一下: 一、decap:寫(xiě)清樣品尺寸,數(shù)量,封裝形式,材質(zhì),開(kāi)封要求(若在pcb板上,需要提前拆下,pcb板子面較大有突起,會(huì)影響對(duì)芯片的保護(hù))后續(xù)試驗(yàn)。 1.IC開(kāi)封(正面/背面) QFP, QFN, SOT,TO, DIP,BGA,COB等 2.樣品減薄(陶瓷,金屬除外) 3.激光打標(biāo) 4.芯片開(kāi)封(正面/背面) 5.IC蝕刻,塑封體去除 二、X-RAY:寫(xiě)清樣品尺寸,數(shù)量,材質(zhì)(密度大的可以看到,密度小的直接穿透),重點(diǎn)觀(guān)察區(qū)域,精度。 1.觀(guān)測(cè)DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip等不同封裝的半導(dǎo)體、電阻、電容等電子元器件以及小型PCB印刷電路板 2.觀(guān)測(cè)器件內(nèi)部芯片大小、數(shù)量、疊die、綁線(xiàn)情況 3.觀(guān)測(cè)芯片crack、點(diǎn)膠不均、斷線(xiàn)、搭線(xiàn)、內(nèi)部氣泡等封裝 缺陷,以及焊錫球冷焊、虛焊等焊接缺陷 三、IV:寫(xiě)清管腳數(shù)量,封裝形式,加電方式,電壓電流限制范圍。實(shí)驗(yàn)人員需要提前確認(rèn)搭建適合的分析環(huán)境,若樣品不適合就不用白跑一趟了。 1.Open/Short Test 2.I/V Curve Analysis 3.Idd Measuring 4.Powered Leakage(漏電)Test 四、EMMI:寫(xiě)清樣品加電方式,電壓電流,是否是裸die,是否已經(jīng)開(kāi)封,特殊要求等,EMMI是加電測(cè)試,可以連接各種源表,確認(rèn)加電要求,若實(shí)驗(yàn)室沒(méi)有適合的源表,可以自帶,避免做無(wú)用功。 1.P-N接面漏電;P-N接面崩潰 2.飽和區(qū)晶體管的熱電子 3.氧化層漏電流產(chǎn)生的光子激發(fā) 4.Latch up、Gate Oxide Defect、Junction Leakage、 Hot Carriers Effect、ESD等問(wèn)題 五、FIB:寫(xiě)清樣品尺寸,材質(zhì),導(dǎo)電性是否良好,若尺寸較大需要事先裁剪。一般樣品臺(tái)1-3cm左右,太大的樣品放不進(jìn)去,也影像定位,導(dǎo)電性好的樣品分析較快,導(dǎo)電性不好的,需要輔助措施才能較好的分析。切點(diǎn)觀(guān)察的,標(biāo)清切點(diǎn)要求。切線(xiàn)連線(xiàn)寫(xiě)清方案,發(fā)定位文件。 1.芯片電路修改和布局驗(yàn)證 2.Cross-Section截面分析 3.Probing Pad 4.**切割 六、SEM:寫(xiě)清樣品尺寸,材質(zhì),導(dǎo)電性是否良好,若尺寸較大需要事先裁剪。一般樣品臺(tái)1-3cm左右,太大的樣品放不進(jìn)去,也影像定位,導(dǎo)電性好的樣品分析較快,導(dǎo)電性不好的,需要輔助措施才能較好的分析。 1.材料表面形貌分析,微區(qū)形貌觀(guān)察 2.材料形狀、大小、表面、斷面、粒徑分布分析 3.薄膜樣品表面形貌觀(guān)察、薄膜粗糙度及膜厚分析 4.納米尺寸量測(cè)及標(biāo)示 七、EDX:寫(xiě)清樣品尺寸,材質(zhì),EDX是定性分析,能看到樣品的材質(zhì)和大概比例,適合金屬元素分析。 1.微區(qū)成分定性分析 八、Probe:寫(xiě)清樣品測(cè)試環(huán)境要求,需要搭配什么源表,使用什么探針,一般有硬針和軟針,軟針較細(xì),不易對(duì)樣品造成二次損傷。 1.微小連接點(diǎn)信號(hào)引出 2.失效分析失效確認(rèn) 3.FIB電路修改后電學(xué)特性確認(rèn) 4.晶圓可靠性驗(yàn)證 九、OM:寫(xiě)清樣品情況,對(duì)放大倍率要求。OM屬于表面觀(guān)察,看不到內(nèi)部情況。 1.樣品外觀(guān)、形貌檢測(cè) 2.制備樣片的金相顯微分析 3.各種缺陷的查找 4.晶體管點(diǎn)焊、檢查 十、RIE:寫(xiě)清樣品材質(zhì),需要看到的區(qū)域。 1.用于對(duì)使用氟基化學(xué)的材料進(jìn)行各向同性和各向異性蝕刻,其中包括碳、環(huán)氧樹(shù)脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、光阻劑、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢鈦以及鎢 2.器件表面圖形的刻蝕?
詞條
詞條說(shuō)明
芯片行業(yè)的困境 過(guò)去幾十年,在摩爾定律的指導(dǎo)下,芯片中的晶體管數(shù)量大約每?jī)赡攴环>w管的微縮技術(shù)革新增加了晶體管的密度。摩爾定律在20世紀(jì)60年代**被發(fā)現(xiàn),并一直延續(xù)到2010年代,至此以后,晶體管密度的發(fā)展開(kāi)始放緩。如今,主流芯片包含了數(shù)十億個(gè)晶體管,但如果摩爾定律能夠繼續(xù)按照當(dāng)時(shí)的速度發(fā)展下去,它們的晶體管數(shù)量將是現(xiàn)在的15倍。 每一代晶體管密度的增加,被稱(chēng)為“節(jié)點(diǎn)”。每個(gè)節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于晶體
2019年**半導(dǎo)體市場(chǎng)陷入萎縮,而中國(guó)可圈可點(diǎn) 經(jīng)常會(huì)有人問(wèn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是什么樣的一種產(chǎn)業(yè)?魏少軍教授用奧地利經(jīng)濟(jì)學(xué)家約瑟夫·熊彼得的一句話(huà)來(lái)引出,那就是“創(chuàng)新不是一個(gè)技術(shù)概念,而是一個(gè)經(jīng)濟(jì)概念”。半導(dǎo)體或者芯片產(chǎn)業(yè),恰恰是一個(gè)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的產(chǎn)業(yè),它的發(fā)明較終變成了錢(qián),它是靠創(chuàng)新的方式來(lái)發(fā)展。所以它是個(gè)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的產(chǎn)業(yè)。 了解了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的形式之后,再來(lái)看下半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展情況。以史為鑒,從1987年到
聚焦離子束FIB詳解 1.引言 隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展*,而納米加工就是納米制造業(yè)的**部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的聚焦離子束(FIB)技術(shù)利用高強(qiáng)度聚焦離子束對(duì)材料進(jìn)行納米加工,配合掃描電鏡(SEM)等高倍數(shù)電子顯微鏡實(shí)時(shí)觀(guān)察,成為了納米級(jí)分析、制造的主要方法。目前已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路修改、切割和故障分析等。 2.工作原理 聚焦離子束(ed
失效分析 趙工 轉(zhuǎn)眼到了2020年的初夏,新新冠狀病毒的影響,讓很多原本的計(jì)劃被打亂被改動(dòng),目前北方市場(chǎng)急需完善的第三方實(shí)驗(yàn)室,專(zhuān)業(yè)的技術(shù),成套的檢測(cè)設(shè)備,為滿(mǎn)足用戶(hù)檢測(cè)多樣化,就近服務(wù)的要求,我中心專(zhuān)門(mén)安裝了高精度x-ray檢測(cè)設(shè)備,目前X-ray(X光無(wú)損檢測(cè))已經(jīng)全面對(duì)外服務(wù),機(jī)時(shí)充足。 一、X-ray是什么? X-ray是利用陰極射線(xiàn)管產(chǎn)生高能量電子與金屬靶撞擊,在撞擊過(guò)程中,因電子突然減
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半導(dǎo)體探針臺(tái)手動(dòng)探針臺(tái)電性測(cè)試探針臺(tái)probe station失效分析設(shè)備wafer測(cè)試芯片測(cè)試設(shè)備
激光開(kāi)封機(jī)laser decap開(kāi)蓋開(kāi)封開(kāi)帽ic開(kāi)封去封裝
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