空爐(vacuum furnace)是真空環(huán)境中進行加熱的設(shè)備。在金屬罩殼或石英玻璃罩密封的爐膛中用管道與高真空泵系統(tǒng)聯(lián)接。爐膛真空度可達(dá)133×(10-2~10-4)h。爐內(nèi)加熱系統(tǒng)可直接用電阻爐絲(如鎢絲)通電加熱,也可用高頻感應(yīng)加熱。較高溫度可達(dá)3000℃左右。主要用于陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊,以及陶瓷-金屬封接等。
真空爐出現(xiàn)于20世紀(jì)30年代前后。1927年美國制成電工材料真空退火爐。1953年真空自耗電弧爐在工業(yè)得到應(yīng)用。真空爐即在爐腔這一特定空間內(nèi)利用真空系統(tǒng)(由真空泵、真空測量裝置、真空閥門等元件經(jīng)過精心組裝而成)將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出,使?fàn)t腔內(nèi)壓強小于一個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,爐腔內(nèi)空間從而實現(xiàn)真空狀態(tài),這就是真空爐。
真空淬火(回火、退火)就是通過把材料或零件在真空狀態(tài)下按工藝規(guī)程加熱、冷卻來達(dá)到預(yù)期性能的一種處理方法。
真空釬焊 即在真空狀態(tài)下,把一組焊接件加熱到填充金屬熔點溫度以上,但**基體金屬熔點溫度,借助于填充金屬對基體金屬的濕潤和流動形成焊縫的一種焊接工藝。(釬焊溫度因材料不同而異)
真空燒結(jié)即在真空狀態(tài)下,把金屬粉末制品加熱,使相鄰金屬粉末晶粒通過粘著和擴散作用而燒結(jié)成零件的一種方法。
真空加磁 主要適用于金屬材料加磁處理
1)完全消除了加熱過程中工件表面的氧化、脫碳,可獲得無變質(zhì)層的清潔表面。這對于那些在刃磨時僅磨一面的刀具(如麻花鉆磨削后使溝槽表面的脫碳層直接暴露于刃口)切削性能的改善關(guān)系真空爐較大。
2)對環(huán)境無污染,不需進行三廢處理。
3)爐溫測定、監(jiān)控精度明顯提高。熱電偶的指示值與爐溫溫度達(dá)到±1.5°c。但爐內(nèi)大批工件不同部位的溫差較大,若采用稀薄氣體強制循環(huán),仍可控制在±5°c溫差范圍內(nèi)。
4)機電一體化程度高。在溫度測控精度提高的基礎(chǔ)上,工件移動、氣壓調(diào)節(jié)、功率調(diào)節(jié)等均可預(yù)先編程設(shè)定,按步驟實施淬火和回火。
5)能耗顯著**鹽浴爐?,F(xiàn)代**的真空爐加熱室采用優(yōu)質(zhì)隔熱材料制成的隔熱墻和屏障,可將電熱能量高度集中于加熱室內(nèi),節(jié)能效果顯著。
真空爐即真空熱處理爐,根據(jù)應(yīng)用設(shè)備來區(qū)分,大概包含以下種類:
真空淬火爐、真空釬焊爐 、真空退火爐、真空加磁爐、真空回火爐、真空燒結(jié)爐、真空擴散焊爐、真空滲碳爐等。
真空爐按加熱方式分為真空電阻爐、真空感應(yīng)爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐(又稱電子轟擊爐)和等離子爐等。
詞條
詞條說明
雙工位臥式真空爐 ? 青島福潤德微電子設(shè)備有限公司 ? 目??錄 ? 一、??????????設(shè) 備 特 點 二、??????????設(shè) 備 結(jié) 構(gòu)
LPCVD設(shè)備維修及應(yīng)用 低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備使用與維護技術(shù) LPCVD是大規(guī)模集成電路(LSI)和**大規(guī)模集成電路(VLSI)以及半導(dǎo)體光電器件工藝領(lǐng)域里的主要工藝之一。 PCVD技術(shù)可以提高淀積薄膜的質(zhì)量,使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優(yōu)點,成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設(shè)備使用過程中出現(xiàn)薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內(nèi)均勻性、片間均勻性不理想等問題,提
鏈帶式焊接爐技術(shù)方案 鏈帶式焊接爐主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件,金屬陶瓷,可控硅器件,玻璃封裝器件以及各種厚膜電路等焊接和燒結(jié)的連續(xù)工作的隧道式結(jié)構(gòu)熱處理爐。 一、主要技術(shù)指標(biāo) 1、設(shè)計溫度:≤700℃ 2、工作溫度:300℃~600℃ 3、爐內(nèi)控溫:±5℃ 4、儀表控制精度:±1℃ 5、設(shè)備總長度:約10600mm;進出口臺面各為:800mm。 6、加熱區(qū)長度:≤3000mm(6段加熱) 7、冷卻區(qū)長
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