HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機

時間：2023-05-19

某品牌 Sputtering + E-Beam PVD 鍍膜機系統(tǒng)采用 HVA 真空閥門 11000, HVA 真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空, 只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.

E-Beam 鍍膜機設(shè)備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測量, 電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成.

基片在做實驗**般需要做鍍前預(yù)處理, 鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為后獲得高質(zhì)量鍍層作準備, 要進行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進行射頻反應(yīng)清洗, 通過使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到光滑和均勻的表面.

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上海伯東 : 羅先生

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KRI 離子源應(yīng)用于車載AR-HUD 鍍膜
?HUD?已經(jīng)成為一種常見的汽車配置與功能,?通過它來直觀顯示速度、發(fā)動機轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產(chǎn)的車用抬頭顯示?HUD?正在從風擋型?W-HUD?逐漸向增強現(xiàn)實型的?AR-HUD?發(fā)展：從單純的信息展示屏幕,
氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開關(guān)柜檢漏
氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開關(guān)柜檢漏應(yīng)用于電力行業(yè)的中壓開關(guān)柜, 廣泛使用在發(fā)電廠, 變電站, 地區(qū)電網(wǎng)和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等. 中壓開關(guān)柜是一種金屬封閉開關(guān)設(shè)備, 它對中壓開關(guān)以外的其他設(shè)備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設(shè)備, **電力使用上的安全, 中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路.開關(guān)吸合器需要檢漏中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路, 吸合器內(nèi)部真空環(huán)境, 如果有漏,
上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應(yīng)用
真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫(yī)療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續(xù)光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產(chǎn)品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產(chǎn)效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優(yōu)點.也可供金屬材料釬
KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,