KRI 離子源用于離子束拋光機(jī)

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：38

 

    離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對(duì)象的非接觸式修形及拋光, 精度可達(dá)亞納米級(jí), 被譽(yù)為拋光. 離子束拋光機(jī)的部件是可聚焦的高能量離子源. 上海伯東某客戶為精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商, 主要產(chǎn)品為離子束拋光機(jī)、磁流變拋光機(jī)等, 提供精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù), 是一家精密光學(xué)元器件解決方案提供商. 經(jīng), 該客戶采用上海伯東美國 KRi 直流電源式考夫曼離子源 KDC 系列成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī).

 

KRI 離子源用于離子束拋光機(jī):  

應(yīng)用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形

應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體/精密光學(xué)

產(chǎn)品類別：高精密光學(xué)器件

加工指標(biāo)：

1. 加工尺寸能力 5-1200mm ；

2. 采用非接觸式加工, 無邊緣效應(yīng), 不產(chǎn)生亞表面損傷；

3. 亞納米加工精度, 可實(shí)現(xiàn)面型 RMS<3nm 拋光能力；

4. 加工光學(xué)元器件形狀有：平面、球面、非球面、自由曲面、離軸非球面等；

5. 加工光學(xué)元器件材料有：石英玻璃、微晶、低膨脹玻璃、KDP 晶體、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、紅外材料等. 

 

    美國 KRI 考夫曼公司新升級(jí) Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對(duì)準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源通過控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使拋光刻蝕速率快準(zhǔn)確, 拋光后的基材上獲得平坦, 均勻性高的薄膜表面. KDC 考夫曼離子源內(nèi)置型的設(shè)計(jì)符合離子源在離子拋光機(jī)內(nèi)部的移動(dòng)運(yùn)行.

 

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號(hào):

 

型號(hào)	KDC 10	KDC 40	KDC 75	KDC 100	KDC 160
Discharge 陽	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流
離子束流	>10 mA	>100 mA	>250 mA	>400 mA	>650 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵直徑	1 cm Φ	4 cm Φ	7.5 cm Φ	12 cm Φ	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm	2-10 sccm	2-15 sccm	2-20 sccm	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	11.5 cm	17.1 cm	20.1 cm	23.5 cm	25.2 cm
直徑	4 cm	9 cm	14 cm	19.4 cm	23.2 cm
中和器	燈絲

 




上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅小姐


伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說明

• 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) VSM 磁滯回線測試應(yīng)用|上海伯東代理英國進(jìn)口Nano

  振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) VSM 磁滯回線測試應(yīng)用 上海伯東代理英國 NanoMagnetics 儀器振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) VSM 主要用于測量塊狀, 粉末, 薄片, 單晶和液體各種材料的測量. 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) VSM 可完成磁滯回線, 起始磁化曲線, 退磁曲線及溫度特性曲線, IRM 和 DCD 等曲線的測量. 搭配不同的高低溫選件可進(jìn)行磁化數(shù)據(jù)的溫度函數(shù)的測量, 測定居里溫度點(diǎn)等. 上海伯東代理英國 Nano

• HVA 矩形閥 Load-lock 典型應(yīng)用

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應(yīng)用上海伯東某生產(chǎn)原生多晶矽料生產(chǎn)設(shè)備, 矽片加工設(shè)備, 晶體矽電池生產(chǎn)設(shè)備企業(yè), 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機(jī)臺(tái)的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內(nèi)的矽片生產(chǎn)線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般

• 美國 HVA 真空閥門選型

  上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實(shí)例產(chǎn)品系列特點(diǎn)口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

  國內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美