KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜

時間：2024-01-10

紫外濾光片是一種光學元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現(xiàn)了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達99.9%的細菌和病原體.

紫外線在222nm下工作對濾光片生產(chǎn)廠家來說是一項挑戰(zhàn), 因為許多常用材料在這個波段有較大的吸收、甚至不通光. 大多數(shù)干涉濾光片的設計都設光只被透射或反射而不被吸收, 而遠紫外波段由于吸收較大、材料選擇有限, 鍍膜難以獲得較高的透過成為業(yè)內(nèi)的一個難題. 為了解決傳統(tǒng)紫外濾光片膜層光譜吸收嚴重等問題, 經(jīng)過上海伯東某客戶采用光學鍍膜機加裝美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制222nmUVC 紫外濾光片, 選取紫外通光性能及高低折射率較好的基底和材料, 鍍膜效果可達到客戶要求.

上海伯東美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380輔助沉積鍍制222nm紫外濾光片, 能夠盡可能地減小材料在紫外波段的吸收, 并且沉積過程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設計和均勻性修正, 可以很好地鍍制出透過、截止深度高、溫度漂移小、膜層致密性好、使用壽命長的產(chǎn)品, 解決業(yè)內(nèi)在紫外波段鍍膜透過率不高以及溫漂的難題.

上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間長! 射頻離子源 RF 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術參數(shù):

型號	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000 or RFN

上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅小姐

詞條
詞條說明
分子泵組應用于紅外原位分析平臺
Pfeiffer?分子泵組應用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態(tài)反應過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復雜反應過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴格的高真空和高溫預處理, 可在高真空
上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用
半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩(wěn)定的供應到工藝設備內(nèi). 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),?用來改變氣流方向,?調(diào)節(jié)氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb
KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜
?? 舞臺燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產(chǎn)生不同顏色.?而在光學元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜
美國 HVA 真空閥門選型
上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產(chǎn)品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列有