CVD涂層設備、CVD設備

時間：2020-01-05作者：上海晨鑫電爐有限公司瀏覽：1664

 我公司和中科院寧波材料所聯(lián)合研制開發(fā)了產(chǎn)業(yè)化CVD裝備及涂層。開發(fā)的CVD裝備具有有效沉積容積大，氣流均勻可控，溫度均勻可控的特點。開發(fā)了相應的碳化硅，氮化鈦復合硬質涂層和金剛石超硬涂層，并且可以調控涂層界面，具有涂層附著力強的特點。




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• CVD涂層設備、CVD設備

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