大理石磨塊拋光與打蠟拋光的區(qū)別
13305631332, qq:524915046
大理石拋光使用功率2HP以上,轉(zhuǎn)速175---210轉(zhuǎn)/分鐘,重量45-70公斤晶面機(jī)、獸毛含量70%的獸毛墊、3M墊、納米墊、配合大理石鏡面拋光粉(氧化鋁拋光粉,VK-L30F,0.3um,**)進(jìn)行拋光研磨,拋光后大理石表面光澤度可達(dá)較少能在90—100度以上。
大理石磨塊拋光與打蠟的區(qū)別
本質(zhì)區(qū)別
1 、大理石磨塊拋光是其主要原理是利用由無(wú)機(jī)酸、金屬氧化物等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機(jī)械磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱能,水的作用在比較光滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)化合作用,從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有**亮的、清晰的光度,光度可達(dá)90-100度。此晶體層是石材表層的改性化合晶體層。
2 、大理石清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護(hù)措施,如今已經(jīng)失去市場(chǎng)和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材(拋光板)面上覆蓋的一種酸樹(shù)脂與乳液的聚合物的薄薄涂層,就是我們常說(shuō)的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過(guò)高速、低壓力的拋光機(jī)配合纖維墊在石材表面摩擦,使樹(shù)脂涂層較加光亮的一個(gè)過(guò)程。此涂層就類似于木地板上油的清漆。
3 、大理石磨塊拋光工藝是石材表層與化學(xué)物的物理和化合作用過(guò)程。石材表層與底層*化合成一個(gè)整體,不存在脫離層。
4 、大理石打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的,一層樹(shù)脂膜,與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟,可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。
表象區(qū)別
1 、大理石磨塊打磨拋光后光度高、清晰度高,**、耐踩,不易刮花,是石材使用功能的真實(shí)體現(xiàn)和**延伸。
2 、石材打蠟拋光后的光度低,光度不清晰、而且很模糊,不**、不耐水,易刮花、氧化變黃使石材本質(zhì)形象降低。
延伸與操作區(qū)別
1 、石材磨塊拋光后的晶體層其毛孔不存在*封閉,石材照樣可以里外透氣,石材不易病變。同時(shí)具有一定的**、防污作用。
2 、大理石打蠟拋光后,石材毛孔被*封閉,石材不可以里外透氣,所以石材容易產(chǎn)生病變。
詞條
詞條說(shuō)明
納米二氧化硅拋光液 50nm CAS#:14808-60-7 產(chǎn)品性質(zhì): 分子式:SiO2 , 分子量:60.08 。 我公司系列二氧化硅拋光液產(chǎn)品均是以高純硅粉為原料生產(chǎn)的一種高純度二氧化硅拋光液,廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光, 拋光特點(diǎn):具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光**、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。 技術(shù)指標(biāo) 型號(hào) 外觀 平均粒徑
環(huán)保板材**光觸媒納米二氧化鈦 13305631332, 13305631650,qq: 524915046 CAS# :13463-67-7 ??? 產(chǎn)品特性: 1、光觸媒光催化**銳鈦納米二氧化鈦能有效的催化降解甲醛,苯,氨,TVOC,還具有較好的分散性,適合于光觸媒涂料,硅藻土涂料,自清潔涂料,自清潔陶瓷色料,廢氣處理,污水處理等,光觸媒板材,催化**納米二氧
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