TJ光學(xué)掩模板蒸鍍掩模板柔性掩膜激光切割 精密加工

    TJ光學(xué)掩模板蒸鍍掩模板柔性掩膜激光切割 精密加工

        光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

        待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備,如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。

        掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。

    掩膜版的分類

    透明基板

    1、透明玻璃 。石英玻璃(Quartz Glass)蘇打玻璃(Soda-lime Glass)低膨脹玻璃(Low Expansion Glass)

    2、透明樹脂

    遮光膜

    1)硬質(zhì)遮光膜:鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。

    2)乳膠。

    材料厚度(公制):

    0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm

    產(chǎn)品特點(diǎn):

    激光加工線條均均,無毛剌,口

    產(chǎn)品價(jià)格:

    以材料材質(zhì)、厚度、精度要求、量產(chǎn)數(shù)量綜合核定

    加工能力:可大批量加工

    樣品提供:

    付費(fèi)打樣,樣品內(nèi),快24小時(shí)出樣,量大可申請樣品

    梁工


    天津華諾普銳斯科技有限公司專注于天津激光精密切割,天津激光焊接,天津激光打孔等

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