恭祝ZN硅業(yè)NPE3500型PECVD順利驗收

時間：2024-12-27作者：那諾-馬斯特中國有限公司瀏覽：371

近日，NANO-MASTER工程師至浙江ZN硅業(yè)有限公司，順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備！




NANO-MASTER的PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可應(yīng)用于等離子誘導(dǎo)表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據(jù)不同應(yīng)用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規(guī)格的離子源。標準樣品臺尺寸有6”和8”可選，較高可定制到16”或者其他較大的尺寸，樣品臺可提供RF、Pulse DC或DC偏壓。樣品臺可提供電阻加熱或紅外燈加熱。

系統(tǒng)標配渦輪分子泵和機械泵，極限真空到5*10-7Torr，腔體壓力調(diào)節(jié)通過PC自動控制渦輪速度而全自動調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定。

工藝過程通過觸摸監(jiān)控屏幕和Labview軟件，可實現(xiàn)全自動的PC控制，具有高度的可重復(fù)性。系統(tǒng)具有完整的安全聯(lián)鎖，提供四級密碼授權(quán)訪問保護。能直接研發(fā)和量產(chǎn)應(yīng)用。




NANO-MASTER的PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積選配項







驗收培訓(xùn)





那諾-馬斯特中國有限公司專注于磁控濺射系統(tǒng),刻蝕系統(tǒng),清洗去膠系統(tǒng)等

• 詞條

  詞條說明

• 詳解磁控濺射技術(shù)

  一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使氬氣發(fā)生電離（在高壓作用下Ar

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  烈日炎炎，熱情滿心間！后疫情時代，NANO-MASTER工程師步履不停，一站接一站為客戶提供設(shè)備安裝調(diào)試服務(wù)。首站福州大學(xué)，那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機！性能配置：離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì)，z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍，650mA，100-1200V?？涛g速率：~250A/min對Au；刻蝕均勻度：對4”片，片內(nèi)均勻性**±

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