新聞快訊-鵬城半導(dǎo)體MOCVD設(shè)備

時(shí)間：2022-08-03作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：158

材料的輸運(yùn)采取了**純的氣路系統(tǒng)，源的切換和輸入采用了多路組合閥進(jìn)氣技術(shù)。由于組合閥具有較小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長(zhǎng)具有陡峭界面的材料。

采用壓差控制技術(shù)控制組合閥的旁路和主路之間的壓力，大大降低了源的壓力和濃度波動(dòng)，有利于材料生長(zhǎng)的重復(fù)性和穩(wěn)定性。

采用了管道鑲嵌式進(jìn)氣噴頭，使反應(yīng)源在襯底表面均勻混合并反應(yīng)，大大降低了預(yù)反應(yīng)的發(fā)生。

采用電阻式快速升降溫加熱爐。


鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積C,金剛石涂層,分子束外延MBE等

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• 「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導(dǎo)體榮獲4項(xiàng)軟件著作權(quán)**證書

  近日，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡(jiǎn)稱：鵬城半導(dǎo)體）申請(qǐng)的《PVD薄膜沉積系統(tǒng)軟件 》、《高真空濺射系統(tǒng)軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統(tǒng)軟件》4項(xiàng)軟件著作權(quán)**通過審批，經(jīng)*人民共和國(guó)國(guó)家**考證，根據(jù)《*人民共和國(guó)計(jì)算機(jī)軟件保護(hù)條例》和《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司被認(rèn)定這4項(xiàng)軟件的法定著作權(quán)人，從頒證

• 真空鍍膜行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，低耗能無污染**技術(shù)

  1、真空鍍膜行業(yè)技術(shù)水平及特點(diǎn)多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機(jī)）-鵬城半導(dǎo)體真空鍍膜是表面處理技術(shù)的一項(xiàng)分支，是指為了減少雜質(zhì)的干擾，在高度真空環(huán)境下，通過物理或化學(xué)手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉(zhuǎn)換成氣態(tài)或等離子態(tài)，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(zhì)（簡(jiǎn)稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術(shù)鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復(fù)合性能并實(shí)現(xiàn)新型的工程

• 新一代半導(dǎo)體技術(shù)-真空鍍膜技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

  摘要：隨著可持續(xù)發(fā)展觀的深入普及和社會(huì)經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，經(jīng)濟(jì)與環(huán)保協(xié)同發(fā)展成為當(dāng)下企業(yè)發(fā)展和科技創(chuàng)新的主要趨勢(shì)。傳統(tǒng)的通電鍍膜技術(shù)會(huì)產(chǎn)生較大的污染，且鍍膜質(zhì)量不高，經(jīng)濟(jì)效益低下，已逐漸退出歷史舞臺(tái)，取而代之的是技術(shù)較加**、鍍膜質(zhì)量較加優(yōu)秀的真空鍍膜技術(shù)。真空鍍膜技術(shù)始于20世紀(jì)30年代，當(dāng)前真空鍍膜技術(shù)已從實(shí)驗(yàn)室走向了工廠，實(shí)現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用

• 為您提供高性價(jià)比真空鍍膜設(shè)備解決方案《520愛情風(fēng)暴來襲》

  真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作過程，簡(jiǎn)單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結(jié)合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個(gè)重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學(xué)的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設(shè)備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進(jìn)行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷