64、固定床反洗膨脹高度,通常為(A)。 A、樹脂層高的40%-50% B、石英砂墊層高的30%-40% C、設(shè)備總高40%-50% D、設(shè)備總高50%-80% 65、對(duì)于逆流再生交換器,有關(guān)壓脂層和中排的作用下列敘述錯(cuò)誤的是(B)。 A、濾去進(jìn)水中的懸浮物,可通過小反洗洗去表層雜質(zhì),避免頻繁大反洗使樹脂亂層 B、避免再生或反洗時(shí)因操作不當(dāng)而損壞中排裝置 C、再生時(shí)使再生廢液均勻地進(jìn)人中排裝置排走,防止樹脂亂層 D、再生時(shí)壓住中排下的樹脂;防止樹脂擾動(dòng),避免樹脂亂層 66、用噴射器稀釋并輸送再生液,在(D)情況下,再生液濃度偏低。 A、噴射器出口無背壓 B、噴射器進(jìn)再生液閥門過大C、噴射器進(jìn)水壓力過高D、計(jì)量箱中再生液濃度低 67、下例除鹽處理系統(tǒng)中,不能直接作為電站鍋爐補(bǔ)給水的是(C)。 A、一級(jí)或者二級(jí)陰陽離子交換;B、一級(jí)或者二級(jí)陰陽離子交換再加混床 C、一級(jí)或者二級(jí)反滲透;D、一級(jí)或者二級(jí)反滲透再加混床 68、反滲透膜是一種用特定的高分子材料制成具有半透性能的薄膜。反滲透裝置能夠在外加壓力作用下,使(C)透過膜,從而達(dá)到除鹽的目的。 A、鹽類物質(zhì) B、**物質(zhì) C、水分子 D、懸浮物 69、反滲透裝置的脫鹽率是表明設(shè)備除鹽效率的指標(biāo)、用(B)與原水含鹽量之比來計(jì)算。 A、產(chǎn)水含鹽量與原水含鹽量之差、B、原水含鹽量與產(chǎn)水含鹽量之差 C、產(chǎn)水含鹽量 D、產(chǎn)水含鹽量與原水含鹽量之和 7O、反滲透裝置的回收率是反映設(shè)備對(duì)原水利用率的一項(xiàng)指標(biāo),用(C)來計(jì)算。 A、產(chǎn)水流量與進(jìn)水流量之差。B、產(chǎn)水流量與淡水流量之差 C、產(chǎn)水流量與進(jìn)水流量之比 D、產(chǎn)水流量與濃水流量之比 71、反滲透裝置的濃水是指反滲透處理后(A)的水。 A、含鹽量被濃縮 B、懸浮物含量較高 C、含鹽量不變 D、含鹽量較低 72、一般保安過濾器是由過濾精度小于或等于(B)的微濾濾芯構(gòu)成的過濾器,裝在反滲透膜元件前,以確保進(jìn)入反滲透膜的進(jìn)水水質(zhì)滿足規(guī)定的要求。 A、0.5um B、5um C、10um D、20um 73、反滲透膜元件淡水側(cè)壓力一般不得**濃水側(cè)壓(A)。 A、0.03MPa B、0.3MPa C、0.03Kg/cm2 D、3Kg/cm2 74、滲透設(shè)備關(guān)機(jī)時(shí),應(yīng)將膜內(nèi)的(D)排掉并沖洗干凈。 A、保護(hù)液 B、滲透水C、清洗液 D、濃水 75、反滲透設(shè)備停機(jī)時(shí)間**過一個(gè)月以上時(shí),應(yīng)注入(A)進(jìn)行保護(hù)。 A、保護(hù)液 B、防凍液 C、清洗液 D、滲透水 76、反滲透設(shè)備進(jìn)水淤塞指數(shù)SDI15應(yīng)(B)。 A、>4 B、<4 C、>6 D、<6 77、聚酰胺復(fù)合膜反滲透設(shè)備的進(jìn)水游離余氯應(yīng)(B)。 A、>0.lmg/L B、<0.lmg/L C、>0.2mg/L D、<0.2mg/L 78、反滲透設(shè)備的進(jìn)水濁度應(yīng)(B)。 A、<1NTU B、<2NTU C、<3NTU D、<5NTU 79、反滲透設(shè)備膜表面結(jié)生碳酸鈣水垢后,一般用(A)進(jìn)行清洗。 A、檸檬酸 B、硫酸 C、三聚磷酸鈉 D、氨基磺酸 80、反滲透設(shè)備膜表面陳基金屬氧化物后,一般用(B)進(jìn)行清洗。 A、檸檬酸 B、EDTU C、三聚磷酸鈉 D、氨基磺酸 8l、反滲透設(shè)備膜表面易生成的沉積物是(C)。 A、碳酸鈉、硫酸鈉、膠體硅、**物等 B、氫氧化鎂、氯化鈣、硫酸鈣、肢體硅、**物等 C、碳酸鈣、硫酸鈣、金屬氧化物、膠體硅、**物等 D金屬氧化物、氯化鈣、硫酸鈣、膠體硅、**物等 82、反滲透設(shè)備進(jìn)水游離余氯**過規(guī)定的要求時(shí),可采用(B)將其除去。 A、混凝、沉淀、過濾 B、加亞硫酸鈉或經(jīng)活性炭過濾器C、投加殺菌劑D、加阻垢劑或進(jìn)行軟化處理 83、反滲透系統(tǒng)的高壓泵出口壓力升高的可能原因是(A)。 A、高壓泵出口閥調(diào)節(jié)不當(dāng)或濃水調(diào)節(jié)閥關(guān)得太小 B、高壓泵出口閥調(diào)節(jié)不當(dāng)或濃水調(diào)節(jié)閥開得太大; C、反滲透設(shè)備內(nèi)有空氣所產(chǎn)生的“水錘”現(xiàn)象引起的D、反滲透設(shè)備存在背壓所引起的 84、反滲透系統(tǒng)的高壓泵作低壓保護(hù)動(dòng)作,高壓泵無法啟動(dòng)的可能原因是(D)。 A、反滲透設(shè)備內(nèi)有空氣所產(chǎn)生的“水錘”現(xiàn)象引起的B、反滲透設(shè)備存在背壓所引起的 C、反滲透設(shè)備濃水排放量過大所引起的 D、保安過濾器濾芯被雜質(zhì)污堵所引起的 85、設(shè)備出水量降低、滲透水電導(dǎo)率高、膜殼兩端壓差增大的可能原因是(C)。 A、進(jìn)水壓力過高 B、進(jìn)水壓力過低C、膜元件被污染 D、回收率過高 86、在進(jìn)水水質(zhì)不變情況下,反滲透系統(tǒng)回收率偏低的可能原因是(B)。 A、進(jìn)水壓力高或濃水調(diào)節(jié)閥關(guān)得大小 B、進(jìn)水壓力低或濃水調(diào)節(jié)閥開得太大 C、進(jìn)水流量不足及濃水調(diào)節(jié)閥開得太小 D、進(jìn)水溫度高或濃水調(diào)節(jié)閥關(guān)得太小 87、反滲透膜的保護(hù)系統(tǒng)應(yīng)安全可靠,必要時(shí)應(yīng)有(C)的保護(hù)措施。 A、防止**壓 B、防止?jié)馑y關(guān)閉 C、防止水錘沖擊 D、防止斷電 88、在一對(duì)陰陽離子交換膜之間充填(D)交換樹脂,形成一個(gè)EDI單元。 A、陽離子B、陰離子C、弱型離子D、陽離子和陰離子 89、如果EDI組件的進(jìn)水含鹽量很低,運(yùn)行電流也將(B)這時(shí)需采取加鹽措施。 A、較高 B、較低 C、波動(dòng) D、不變 90、EDI進(jìn)水電導(dǎo)率宜控制在(C)。 A、≤5us/cm B、≤10us/cm C、≤50us/cm D、≤100us/cm 91、為避免EDI結(jié)垢,給水硬度應(yīng)控制為(A)。 A、<0.04mmol/L B、<0.4 mmol/L C、<0.2mmol/L D、<0.5mmol/L 92、硬度物質(zhì)易引起EDI裝置內(nèi)結(jié)垢,一般結(jié)垢易發(fā)生在(A)膜的表面。 A、濃水室 B、較水室 C、淡水室 D、給水室 93、EDI組件運(yùn)行時(shí),濃水循環(huán)可以增加濃水室導(dǎo)電性,同時(shí)提高濃水的循環(huán)流速有助于(A)。 A、避免水垢的沉積 B、降低進(jìn)水電導(dǎo)率。 C、降低產(chǎn)品水電導(dǎo)率 D、降低模塊的電流 94、為避免EDI組件濃水中離子濃度過度積累,需要將部分濃水排放。排放量為純水流量10~20%,排放掉的濃水由EDI(D)補(bǔ)充。 A、濃水 B、較水 C、淡水 D、進(jìn)水 95、由于樹脂對(duì)(A)的選擇性較弱,因此進(jìn)水硅含量較高時(shí),容易從EDI泄漏出來。 A、HSiO3 B、HCO3 C、Na+ D、**物 96、EDI的產(chǎn)品水與進(jìn)水壓差增加的主要原因是(B)。 A、產(chǎn)品水出口有異物堵塞 B、運(yùn)行流量增加 C、離子交換膜結(jié)垢 D、運(yùn)行溫度升高 97、EDI濃水出口與入口壓差增加的主要原因是(C)。 A、產(chǎn)品水出口有異物堵塞 B、運(yùn)行流量增加 C、離子交換膜結(jié)垢或污堵 D、運(yùn)行溫度升高 98、過熱蒸汽含鹽量比飽和蒸汽含鹽量高的可能原因(D)。 A、過熱蒸汽溶解鹽類高 B、過熱蒸汽機(jī)械攜帶鹽類高 C、飽和蒸汽帶水 D、表面式減溫器泄漏或混合式減溫水質(zhì)不良 99、當(dāng)過熱蒸汽減溫器運(yùn)行正常時(shí),過熱蒸汽質(zhì)量取決于(B)。 A、減溫水質(zhì) B、飽和蒸汽質(zhì)量 C、減溫器是否泄漏 D、過熱蒸汽機(jī)械攜帶量 100、鍋爐蒸汽的機(jī)械攜帶是指從汽包送出的飽和蒸汽夾帶有一些(A)。 A、鍋水水滴 B、溶解雜質(zhì) C、減溫水滴 D、鍋水水滴與溶解雜質(zhì)之和 101、中壓鍋爐飽和蒸汽受鈉鹽污染的主要原因是(B)。 A、溶解攜帶 B、機(jī)械攜帶 C、鈉鹽在蒸汽溶解能力大 D、溶解攜帶與機(jī)械攜帶之和 102、中壓鍋爐飽和蒸汽受硅污染的主要原因是(D)。 A、溶解攜帶 B、機(jī)械攜帶 C、機(jī)械攜帶大于溶解攜帶 D、溶解攜帶與機(jī)械攜帶之和 103、高壓鍋爐飽和蒸汽受鈉鹽污染的主要原因是(B)。 A、溶解攜帶 B、機(jī)械攜帶 C、機(jī)械攜帶小于溶解攜帶 D、溶解攜帶與機(jī)械攜帶之和 104、高壓和**高壓鍋爐飽和蒸汽受硅污染的主要原因(A)。 A、溶解攜帶 B、機(jī)械攜帶 C、機(jī)械攜帶大于溶解攜帶 D、溶解攜帶與機(jī)械攜帶之和 105、**高壓鍋爐飽和蒸汽受NaCl和Na0H污染的主要原因是(D)。 A、溶解攜帶 B、機(jī)械攜帶 C、機(jī)械攜帶小于溶解攜帶 D、溶解攜帶與機(jī)械攜帶之和 106、**高壓鍋爐飽和蒸汽受Na2S04、Na3P04和Na2SiO3污染的主要原因是(B)。 A、溶解攜帶 B、機(jī)械攜帶 C、機(jī)械攜帶小于溶解攜帶 D、溶解攜帶與機(jī)械攜帶之和 107、當(dāng)飽和蒸汽在過熱器中被加熱成過熱蒸汽時(shí),所含的小水滴會(huì)被(A)至蒸干,水滴中的某些物質(zhì)將以結(jié)晶析出,當(dāng)結(jié)晶量較多時(shí)形成積鹽。 A、蒸發(fā) B、濃縮 C、揮發(fā) D、蒸發(fā)、濃縮 108、帶有各種雜質(zhì)的過熱蒸汽進(jìn)入汽輪機(jī)后,由于壓力和溫度降低,雜質(zhì)在蒸汽中的(A)隨之降低,當(dāng)下降到**它在蒸汽中的含量時(shí),就會(huì)析出沉淀,并沉積在蒸汽流通部位。 A、溶解度 B、水滴 C、機(jī)械攜帶 D、含量 109、正常情況下,過熱器中的沉積物主要是鈉鹽,一般可采用(D)方法清除。 A、酸洗 B、堿洗 C、堿煮 D、水沖洗 11O、過熱器進(jìn)行水沖洗時(shí),一般用(B)進(jìn)行沖洗,也可用除鹽水進(jìn)行沖洗。 A、給水 B、凝結(jié)水 C、疏水 D、軟化水 111、為了提高過熱器水沖洗效果,減少?zèng)_洗水耗,沖洗水的水溫應(yīng)不**(C)。 A、露點(diǎn)溫度 B、35℃ C、70℃ D、100℃ 112、當(dāng)過熱器沉積物為(D)時(shí),應(yīng)在鍋爐化學(xué)清洗時(shí),將過熱器一并進(jìn)行清洗。 A、金屬腐蝕產(chǎn)物 B、磷酸鈉鹽 C、難溶物質(zhì) D、金屬腐蝕產(chǎn)物或難溶物質(zhì) 113、當(dāng)汽包水位**旋風(fēng)分離器下緣,蒸汽可能會(huì)(A),使蒸汽質(zhì)量發(fā)生劣化。 A、從旋風(fēng)分離器下部竄出 B、倒流 C、停留在鍋水中 D、滯留在汽水混合分配室 l14、當(dāng)汽包內(nèi)旋風(fēng)分離器與汽水混合分配室連接不嚴(yán)時(shí),蒸汽可能(C),影響蒸汽質(zhì)量。 A、從旋風(fēng)分離器下部竄出 B、倒流 C、直接進(jìn)入汽室 D、滯留在汽水混合分配室 115、汽包內(nèi)的旋風(fēng)分離器、波形板百葉窗如果(D),會(huì)導(dǎo)致汽水分離效果變差,蒸汽質(zhì)量發(fā)生劣化。 A、配水不均勻 B、配汽不均勻 C、混合不均勻 D、傾斜或松脫 116、高壓及高壓以上的鍋爐為了減少蒸汽的溶解攜帶,一般在汽包內(nèi)設(shè)置(D)裝置。 A、旋風(fēng)分離器 B、波形板百葉窗 C、多孔板 D、蒸汽清洗 117、電站鍋爐酸洗時(shí),金屬腐蝕速度應(yīng)控制在(C)。 A、<12g/(m2·h) B、<10g/(m2·h) C、<8g/(m2·h) D、<6g/(m2·h) 118、額定工作壓力為9.8MPa的汽包鍋爐,當(dāng)達(dá)到(D)時(shí),應(yīng)安排化學(xué)清洗。 A、鍋爐化學(xué)清洗間隔4年,沉積物量為300g/m2 B、鍋爐化學(xué)清洗間隔6年,沉積物量為200g/m2 C、鍋爐化學(xué)清洗間隔8年,沉積物量為300g/m2 D、鍋爐化學(xué)清洗間隔10年,沉積物量為400g/m2 119、由于試劑中含有干擾雜質(zhì)所產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差,應(yīng)通過(B)來消除。 A、對(duì)照分析 B、空白試驗(yàn) C、增加平行試驗(yàn) D、校正儀器 120、通過比較溶液顏色深淺,測(cè)定被測(cè)物質(zhì)濃度的分析方法,稱為(C)法。 A、分光光度 B、容量分析 C、比色分析 D、電化學(xué)分析 121、根據(jù)物質(zhì)對(duì)光的吸收程度,確定被測(cè)物質(zhì)的含量,稱為(A)法。 A、分光光度 B、容量分析 C、比色分析 D、電化學(xué)分析 122、溶液的消光度與溶液的消光系數(shù)、溶液的厚度以及溶液的濃度成(B)。 A、反比 B、正比 C、對(duì)數(shù)關(guān)系 D、負(fù)對(duì)數(shù)關(guān)系 123、在測(cè)定鍋水PO4-的含量時(shí),顯色反應(yīng)應(yīng)控制在(A),條件進(jìn)行。 A、酸性 B、中性 C、中性或弱堿性 D、強(qiáng)堿性 124、用硅鉬蘭比色法測(cè)定微量硅時(shí),加入正丁醇的作用是(B)。 A、氧化硅鉬蘭 B、萃取硅鉬蘭 C、還原硅鉬蘭 D、顯色 125、采用分光光度法測(cè)定時(shí)。應(yīng)將儀器的波長調(diào)節(jié)至被測(cè)物質(zhì)溶液的(D)波長。 A、可見光 B、紫外光 C、紅外光 D、較大吸收 126、電化學(xué)分析法是基于被測(cè)溶液的各種(C)性質(zhì),來確定其組成和含量的方法。 A、物理 B、化學(xué) C、電化學(xué) D、不穩(wěn)定 127、甘汞電極的電極電位主要決定于(B)。 A、被測(cè)離子的濃度 B、被測(cè)離子的活度 C、氯離子的活度 D、溶液的PH
詞條
詞條說明
EDI技術(shù)在水處理系統(tǒng)中的應(yīng)用
1、前言 目前在發(fā)電廠水處理工藝中有三種方式: **種方式為傳統(tǒng)的除鹽方式,水中的鹽全部依靠離子交換的方式除去,需要大量酸堿溶液對(duì)離子交換樹脂再生,因此運(yùn)行費(fèi)用增加,并且再生后的排水對(duì)環(huán)境也有一定的污染。 *二種方式為改良的除鹽方式,水中的大部分鹽類用反滲透方式除去,但混床中交換樹脂的再生仍需要酸堿。因此此種方式只是改良后的除鹽方式,運(yùn)行費(fèi)用稍有降低,對(duì)環(huán)境也有污染。 *三種方式為綠色的除鹽方式,
超濾 超濾是以壓力為推動(dòng)力的膜分離技術(shù)之一。以大分子與小分子分離為目的,截留顆粒直徑0.002-0.1μm的顆粒的過程。 A nisotropic membrane 不對(duì)稱膜 指膜的化學(xué)結(jié)構(gòu)或物理結(jié)構(gòu)隨膜的部位而異,即各向異性的膜。用高分子溶液鑄膜時(shí),膜是由很薄的致密皮層和比皮層厚得多的由海綿狀或指狀微孔層構(gòu)成的支撐底層共同形成具有分離功能的高分子膜,在膜的厚度方向上呈現(xiàn)出不對(duì)稱性。 M olec
**純水處理設(shè)備操作運(yùn)行中的維護(hù)注意事項(xiàng)
EDI**純水處理設(shè)備的良好的長期運(yùn)行不僅依賴于系統(tǒng)的初期設(shè)計(jì),而且取決于正確的運(yùn)行和維護(hù)。這包含系統(tǒng)的初期啟動(dòng)和運(yùn)行過程中的啟動(dòng)/停機(jī)。為了保持系統(tǒng)的長期良好運(yùn)行,需要對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行數(shù)據(jù)進(jìn)行定期記錄,以便日后日常運(yùn)行維護(hù)。而且日常運(yùn)行維護(hù)數(shù)據(jù)對(duì)于在設(shè)備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。 1、啟動(dòng)前的檢查通過運(yùn)行反滲透裝置,將其處于回流狀態(tài)。 測(cè)試EDI純水設(shè)備進(jìn)水水質(zhì)的下列指標(biāo): 進(jìn)水水源 二
釀酒工藝當(dāng)今不斷創(chuàng)新,良好酒產(chǎn)能不斷擴(kuò)張,酒品消費(fèi)水準(zhǔn)直線上升,酒質(zhì)已成為影響市場銷售量增長的較基本要素,高質(zhì)高**享受,低質(zhì)低價(jià)低品味,已成為釀酒與品酒人的共識(shí)。用酒質(zhì)說話,用酒質(zhì)讓消費(fèi)者品味消費(fèi),提高酒質(zhì)就成為酒業(yè)商家的全力動(dòng)作。提高酒質(zhì)有多種工藝途徑,但水是較基本、較關(guān)鍵的要素。 常言道,一方水釀一方酒,全國各族各地區(qū)都有自己的地方酒類品味,保留提升代表地域的酒品是發(fā)展地方名酒品牌的主軸。科
公司名: 安徽元通水處理設(shè)備有限公司
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