潔凈室懸浮分子污染

    懸浮分子污染(AMC)
    4.1AMC的分類及控制要求情況
    AMC作為IC工廠所關心的問題于20年前較先由日本人提出,近年來,IC生產園片直徑已達φ300mm,工藝加工尺寸(線寬)已小于0.15μm,在某些加工工序及工序間園片的傳送和存放環(huán)境中AMC已成為嚴重影響成品率的問題,已被清楚的認識到,因此,AMC的控制已由談論轉到需要實施。
    對于IC生產,AMC分為A、B、C、D四類,即:
    A——酸性物質,如Hcl等;
    B——堿性物質,如NH3等;
    C——沸點**室溫能在光潔表面冷凝的物質,主要是碳氫化合物,某些工藝加工環(huán)境中的水蒸汽亦需要考慮;
    D——摻雜物質,能為園片表面吸附或與表面相互反應的物質,如砷、硼、磷等。
    AMC對當前的IC生產其潛在的污染比粒子污染要廣泛多,粒子污染控制只要確定粒徑及個數(shù),但對AMC控制而言,除了受芯片線寬的縮小而變化外,并受工藝、工藝設備、工藝材料及園片傳送系統(tǒng)等的影響,較有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子對下一工序往往可能是污染物,而園片加工工序當前已多于300多個獨立工序,對AMC控制指標的確定較是復雜。因此,IC生產對AMC的控制,對不同的產品、不同的工藝、不同的工序及不同的工藝材料會有不同的要求,對各種污染物質的要求當前總的說法是控制在亞pptm~1000pptm間。
    4.2AMC控制的實施情況
    對線寬0.25μm的IC生產,一般已常在新風處理中設活性炭過濾器;有關關鍵工序以及工序間園片的傳送及存放,有的生產廠采取了AMC控制,有的生產廠則并未進行控制,主要在于經濟效果的衡量上,有關具體控制要求及措施報道甚少見,可能是由于保密的原因,但一點可以肯定,只能在局部環(huán)境內進行控制。
    為滿足φ300mm園片,<0.15mm線寬的加工要求,近年來對AMC控制,重點在以下三方面開展工作:
    (1)精確的測量技術及標準測試方法的建立。因為這是掌握AMC控制的基礎,必須**;
    (2)按今后IC的生產要求,生產線的設備采用微環(huán)境隔離,各設備間園片的傳送采用前開式標準片盒(FOUPs)系統(tǒng),對園片進行隔離。因此,早已對設備、FOUPs系統(tǒng)及微環(huán)境所用的材料要求不釋放及吸附有關懸浮分子污染物的問題以及對此污染物的去除措施進行研發(fā),并不斷改進中;
    (3)控制AMC的過濾器。
    近年來尤其是近2~3年來,對控制AMC過濾器的開發(fā)及推出有少進展;
    A.不釋放AMC物質的HEPA/ULPA;
    a.低硼**細玻璃纖維過濾器,現(xiàn)已在亞洲及歐洲的IC廠使用較多;
    b.多孔聚四氟乙?。╡PTFE)過濾器,為薄膜結構,價格比a要高出十倍左右。目前使用尚不多,正在開發(fā)下一代的。暖通-空調-在線
    B.化學過濾器
    目前已推出的化學過濾器主要是:
    a.活性炭過濾器,大多數(shù)是晶粒狀的,有盤片式、蜂窩式等;亦已有活性炭纖維過濾器,具有吸附速度快的特點,價格尚較高;還已有晶粒與纖維粘合的過濾器。
    b無紡合成織物上浸漬各種功能晶粒(如活性炭、活性鋁,但主要是活性炭)以吸附AMC物質。

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