等離子清洗機(jī)集成電路去膠

時(shí)間：2022-05-30作者：煙臺(tái)金鷹科技有限公司瀏覽：132

等離子體清洗機(jī)的表面處理技術(shù)是利用等離子體實(shí)現(xiàn)常規(guī)清洗方法所不能達(dá)到的。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也稱為物質(zhì)的四態(tài)，與一般的固體氣體三態(tài)不同。向氣體施加足夠的能量，使其離化，即為等離子態(tài)。其“活性”成分包括：離子、電子、原子、活化基、光子等。等離子清洗法是利用這些活性成分對(duì)試樣表面進(jìn)行處理，達(dá)到清潔、涂覆等目的。工件表面經(jīng)化學(xué)或物理處理后，可在分子水平上去除污染物，從而提高工件表面活性。

在微電子技術(shù)中，光刻膠是一種非常重要的微細(xì)圖形材料，它的主要作用是在表面上進(jìn)行化學(xué)或機(jī)械處理時(shí)，對(duì)基片上的基片進(jìn)行保護(hù)。當(dāng)刻蝕或離子注入后，就不再需要光刻膠作為保護(hù)層，可將其去除。光刻膠去膠效果太差，影響生產(chǎn)效率，去膠效果太強(qiáng)，容易損壞基底，影響到整個(gè)產(chǎn)品的成品率。







采用等離子體表面處理技術(shù)剝離光刻膠時(shí)，要在等離子體環(huán)境中通過(guò)氧原子核和光刻膠進(jìn)行反應(yīng)，以消除光刻膠，因?yàn)楣饪棠z的基本成分為烴類**物，氧離成氧原子，在射頻或微波的作用下，電離成氧原子，與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生一氧化碳、二氧化碳、水等，再經(jīng)泵真空抽空。去除光刻膠的過(guò)程。








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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 等離子清洗機(jī)之表面活化改性功能

  等離子清洗機(jī)在表面工程應(yīng)用，包括表面清洗、表面活化、表面滅菌、表面能蝕變、提高表面潤(rùn)濕性能、粘接和粘附的表面制備、表面化學(xué)改性以及表面處理。通過(guò)活化、接枝和表面包覆對(duì)聚合物和生物材料進(jìn)行表面刻蝕、表面活化處理。工業(yè)生產(chǎn)中的清洗概念很廣，包括任何與去除污染物有關(guān)的工藝，在不破壞材料表面特性的前提下，有效地清除殘留在材料上的微塵，**雜物及金屬離子。傳統(tǒng)的清洗方法不能完全將材料表面薄膜去除，而會(huì)留下一

• 等離子清洗機(jī)，提高表面附著力

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  等離子清洗機(jī)對(duì)金屬表面的清潔：金屬表面常常會(huì)有油脂、油污等**污染物及氧化層，低溫等離子清洗機(jī)，在進(jìn)行濺射、粘合、焊接、油漆和PVD、CVD涂覆前可以用等離子清洗器處理來(lái)得到清潔和無(wú)氧化層的表面。等離子清洗機(jī)器處理后會(huì)得到如下效果：清潔表面**污染物；去除焊接留下來(lái)的助焊劑，防止腐蝕；去除電鍍、粘合、焊接操作時(shí)留下的殘留物，增強(qiáng)健合能力。等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機(jī)