X射線光譜方法測(cè)定

    X射線光譜方法測(cè)定覆蓋層厚度是基于一束強(qiáng)烈而狹窄的多色X射線與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長(zhǎng)和能量的二次輻射,這些二次輻射具有構(gòu)成覆蓋層和基體元素特征。覆蓋層單位面積質(zhì)量(若密度已知,則為覆蓋層線性厚度)和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知,同時(shí)又給出實(shí)際的密度,則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。
    測(cè)試設(shè)備:X射線熒光測(cè)厚儀
    參考標(biāo)準(zhǔn):GB/T 16921, ISO 3497,ASTM B568

    掃描電鏡法是通過從待測(cè)試樣上*部位垂直于覆蓋層切割一塊試樣,經(jīng)過鑲嵌、研磨、拋光和浸蝕制成橫截面金相試樣,利用掃描電子顯微鏡進(jìn)行鍍層厚度測(cè)量。
    測(cè)試設(shè)備:掃描電子顯微鏡
    參考標(biāo)準(zhǔn):JB/T 7503, ISO 9220,ASTM B748
    深圳市啟威測(cè)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司專注于表面微觀形貌SEM,材料斷口觀察SEM,表面成分分析EDS,微量污染物成分分析,涂鍍層厚度測(cè)試,表面粗糙度量測(cè)等

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    詞條說明

  • 涂鍍層厚度測(cè)試的應(yīng)用領(lǐng)域

    涂鍍層厚度測(cè)試應(yīng)用領(lǐng)域電子、汽車、航空、材料、金屬、陶瓷品等各個(gè)制造領(lǐng)域。涂/鍍層厚度測(cè)量相關(guān)參考標(biāo)準(zhǔn)GB/T?6462-2005?金屬和氧化物覆蓋層厚度測(cè)量顯微鏡法GB/T16921-2005?金屬覆蓋層?覆蓋層厚度測(cè)量 X射線光譜法ASTM?B487-1985(2007)?用橫斷面顯微觀察法測(cè)定金屬及氧化層試驗(yàn)方法ASTM?

  • 成分分析的作用及目的

    成分分析的目的了解原料成份,質(zhì)量監(jiān)控分析產(chǎn)品中的各個(gè)組分比例,還原產(chǎn)品配方為產(chǎn)品標(biāo)簽尋找證據(jù)證明產(chǎn)品不含某成份為產(chǎn)品性能下降找原因了解成份含量,以了解產(chǎn)品性能解決生產(chǎn)過程出現(xiàn)的問題比較不同時(shí)期的產(chǎn)品成分分析的作用煉鋼爐前分析——控制產(chǎn)品質(zhì)量分析組成成分----還原配方工業(yè)問題診斷----分析原因,消除隱患成品檢驗(yàn)——合格產(chǎn)品的質(zhì)保書深圳市啟威測(cè)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司(簡(jiǎn)稱“啟威測(cè)”或“QWC”)成立

  • 材料斷口觀察SEM分析檢測(cè)

    用肉眼(目視)或在不大于10倍的放大鏡下,檢驗(yàn)金屬的宏觀組織和缺陷稱為組織檢驗(yàn)。在實(shí)驗(yàn)室中,常用的檢驗(yàn)方法有酸蝕低倍檢驗(yàn)、斷口檢驗(yàn)、塔形車削發(fā)紋檢驗(yàn)和硫印試驗(yàn)等。酸蝕低倍檢驗(yàn),這是一種將制備好的試樣,經(jīng)過酸液腐蝕以后,來顯示試樣的宏觀組織的檢驗(yàn)。而根據(jù)酸液溫度的不同,又可以分為熱酸蝕和冷酸蝕兩種檢驗(yàn)。按GB/T1979評(píng)級(jí)圖對(duì)照低倍組織缺陷圖來進(jìn)行評(píng)級(jí)。,通過放大鏡,在酸蝕后的試片上可以發(fā)現(xiàn)各種皮

  • 什么是表面微觀形貌SEM?

    表面所具有的微觀幾何形狀統(tǒng)稱為表面形貌(surface?topography),?其中表面被定義為-?-種材料與其它材料之間的分界面"?(在工程表面的情況下,一種材料是空氣,另-種為固體材料,例如金屬、塑料等)。固體表面是指固體上代表實(shí)體和周圍環(huán)境邊界的部分。工程表面形貌代表著工件表面的主要外部特征,是由加工過程中的各種工序產(chǎn)生的。一個(gè)制件表面的微觀幾何形貌

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