技術(shù)能夠在*對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片

    按臺(tái)積電的說法,其透明式雙重成像技術(shù)能夠在*對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片設(shè)計(jì)辦法停止變動(dòng)的條件下將產(chǎn)品遷移到20nm節(jié)點(diǎn)。目前臺(tái)積電曾經(jīng)在與EDA軟件廠商討論如何將透明式雙重成像技術(shù)內(nèi)嵌到EDA廠商的商用設(shè)計(jì)軟件中去。
     回想2009年初,臺(tái)積電曾表示其啟動(dòng)20nm制程節(jié)點(diǎn)時(shí)EUV/電子束光刻等次世代光刻技術(shù)可能尚未成熟,因而屆時(shí)他們方案啟用193nm液浸式光刻機(jī)+雙重成像技術(shù)。當(dāng)時(shí)臺(tái)積電擔(dān)任光刻技術(shù)的高管林本堅(jiān)曾表示,他較傾向于運(yùn)用僅需停止單次蝕刻的LLE(Litho-Litho-Etch)型雙重成像技術(shù),而非目常見的LELE(Litho-Etch-Litho-Etch)/SADP型雙重成像技術(shù)。
     LLE技術(shù)運(yùn)用成分不同的雙層光阻膠, 或采用特殊的光阻膠固化工藝(Freeze process)采用兩次曝光+單次蝕刻的辦法來完成雙重成像;相比之下LELE技術(shù)則采用硬掩模層隔開光阻膠的計(jì)劃,采用兩次曝光+兩次蝕刻(分別蝕刻兩層光阻膠及硬掩模)的辦法來完成雙重成像。
     LLE技術(shù)的優(yōu)勢之一是本錢方面可能比LELE計(jì)劃愈加優(yōu)越,不過09年時(shí)LLE技術(shù)還并不成熟。目前我們還不分明臺(tái)積電這次將展現(xiàn)的透明式雙重成像技術(shù)能否就是基于LLE技術(shù),答案恐怕只要在DAC會(huì)議召開時(shí)才干揭曉了。
     另外,臺(tái)積電如今宣布20nm節(jié)點(diǎn)制程采用193nm液浸式光刻+雙重成像技術(shù),那么這能否意味著他們在20nm節(jié)點(diǎn)不會(huì)啟用EUV呢,恐怕一定?假如仔細(xì)閱讀上面的報(bào)道,你會(huì)發(fā)現(xiàn)臺(tái)積電所說的透明式雙重成像技術(shù)是為了提升“金屬線節(jié)距”的分辨率而開發(fā)的,那么屆時(shí)比金屬線層愈加關(guān)鍵的多晶硅層會(huì)采用什么光刻技術(shù)?
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