不能一味追求設(shè)備的較高配置

時(shí)間：2020-01-05作者：東莞市科普源光源設(shè)備有限公司瀏覽：629

在做選購(gòu)決策時(shí)，不能一味追求設(shè)備的較高配置。設(shè)備配置過(guò)高北人股份，必然價(jià)錢不菲，使企業(yè)消費(fèi)本錢加大，競(jìng)爭(zhēng)才能降落。例如，一家煙包印刷企業(yè)所承印的煙包較多是6色，那么其購(gòu)置配置8個(gè)色組的凹印設(shè)備就夠了版材，沒(méi)有必要選購(gòu)10色機(jī)，而且色組數(shù)越多，在控制紙張變形、各色套印精度等方面的難度就會(huì)越大，而且資金投入也會(huì)加大。但假如色組數(shù)選擇過(guò)少，將會(huì)限制以后印刷企業(yè)產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和市場(chǎng)的開(kāi)辟。此外廠商信息，假如企業(yè)沒(méi)有UV印刷品，也就沒(méi)有必要配置UV系統(tǒng)，但是能夠預(yù)留UV安裝的裝置位置，待需求時(shí)及時(shí)增加；沒(méi)有轉(zhuǎn)移紙印刷品，就沒(méi)有必要選購(gòu)連線復(fù)合、定位拼接和二次進(jìn)紙機(jī)構(gòu)。光盤印刷
 
    以下是幾種比擬有代表性的設(shè)備配置：①印品工藝比擬簡(jiǎn)單模切燙印壓痕，6色印刷，無(wú)燙印等復(fù)雜的后加工工序，主要為硬包產(chǎn)品，倡議該煙包消費(fèi)企業(yè)配置8色凹印機(jī)，且附加連線模切單元。假如還要印刷軟包煙包科印報(bào)告，倡議在上述配置根底上增加一臺(tái)復(fù)卷機(jī)；②假如印品要經(jīng)過(guò)燙印、壓凹凸工藝，有兩種設(shè)備配置計(jì)劃供企業(yè)選擇，**種是配置橫切大張機(jī)，印刷后橫切大張，單張停止平壓平燙印、壓凹凸和模切；*二種計(jì)劃是單獨(dú)配置一臺(tái)離線圓壓圓模切燙金機(jī)。**種計(jì)劃投資少包裝機(jī)械，消費(fèi)靈敏，工序多，耗費(fèi)高；*二種計(jì)劃投資大，**，耗費(fèi)低高寶，產(chǎn)質(zhì)量量穩(wěn)定。③假如印刷活件為**煙包，應(yīng)思索購(gòu)進(jìn)帶有國(guó)內(nèi)外**技術(shù)配置的設(shè)備，如帶有定位印刷功用、UV固化單元、連線質(zhì)量控制系統(tǒng)的設(shè)備。來(lái)源


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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• UV紫外燈管**采用適合的波長(zhǎng)

  包裝膠印由于其速度快，**，網(wǎng)點(diǎn)還原性好，圖紋質(zhì)感強(qiáng)，而且所能印刷的范圍廣等特點(diǎn)，越來(lái)越為廣大客戶所采用。對(duì)于鋁卡紙、塑料片材等一些非吸收性的承印物材料，包裝膠印一般都是采用UV印刷工藝。因?yàn)閁V膠印比傳統(tǒng)的膠印有以下一些優(yōu)點(diǎn)： 1.固化速度快 普通膠印需要幾個(gè)小時(shí)甚至更多的時(shí)間才能使油墨*干燥，進(jìn)入下一加工工序。而UV膠印可以在１秒鐘到數(shù)秒內(nèi)就*固化，所以特別適于印刷一些非吸收性的承印物。

• uv固化加快水性醇酸涂料的產(chǎn)業(yè)化

  產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)整**包括，通過(guò)改性和可行的水性化工藝加快水性醇酸涂料的產(chǎn)業(yè)化步伐；改變鈦白粉目前硫酸法產(chǎn)品占98%以上的局面；提升氧化鐵顏料深加工能力(如包膜處理)，滿足**市場(chǎng)需求；加快復(fù)合磷酸鹽、復(fù)合鉬酸鹽防腐顏料的開(kāi)發(fā)應(yīng)用，取代紅丹和鉻酸鹽。 科技方面，規(guī)劃提出的技術(shù)**目標(biāo)有，開(kāi)發(fā)**涂料、特種用途無(wú)機(jī)顏料；研發(fā)硫酸法鈦白粉清潔生產(chǎn)集成技術(shù)、氧化鐵顏料生物法氨氮廢水處理技術(shù)；開(kāi)發(fā)地區(qū)**工程

• 公司定于2012年開(kāi)始正式推出EUV光刻機(jī)

  據(jù)ASML公司透露，公司定于2012年開(kāi)端正式推出的下一代正式量產(chǎn)用EUV光刻機(jī)型NXE:3300曾經(jīng)得到了10臺(tái)數(shù)量的訂單.這些訂單的客戶主要 是來(lái)自日本，韓國(guó)，閩臺(tái)以及美國(guó)地域的邏輯芯片/存儲(chǔ)芯片廠商。NXE:3300機(jī)型的成像才能，套刻精度以及晶圓產(chǎn)出量相比前代試量產(chǎn)型產(chǎn)品3100均 有改善，機(jī)型推出的目的是趕在各廠商推行22nm半代制程時(shí)被投入芯片的量產(chǎn)消費(fèi)。 據(jù)ASML公司透露，其前代試

• 技術(shù)能夠在*對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片

  按臺(tái)積電的說(shuō)法，其透明式雙重成像技術(shù)能夠在*對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片設(shè)計(jì)辦法停止變動(dòng)的條件下將產(chǎn)品遷移到20nm節(jié)點(diǎn)。目前臺(tái)積電曾經(jīng)在與EDA軟件廠商討論如何將透明式雙重成像技術(shù)內(nèi)嵌到EDA廠商的商用設(shè)計(jì)軟件中去。 回想2009年初，臺(tái)積電曾表示其啟動(dòng)20nm制程節(jié)點(diǎn)時(shí)EUV/電子束光刻等次世代光刻技術(shù)可能尚未成熟，因而屆時(shí)他們方案啟用193nm液浸式光刻機(jī)+雙重成像技術(shù)。當(dāng)時(shí)臺(tái)積電擔(dān)任光刻技術(shù)的高管林