9BF-1M5P精密雙面平面拋光機(jī),拋光機(jī)

時間：2017-06-15作者：蘇州博宏源機(jī)械制造有限公司瀏覽：138

9BF-1M5P精密雙面平面研磨機(jī)

9BF-1M5L精密雙面平面拋光機(jī)

主要用途

本機(jī)主要適用于硅片、光學(xué)玻璃、陶瓷片、石英晶體、半導(dǎo)體及其他硬脆材料的**雙面平面研磨/拋光。

主要特點

1.壓力精密控制：PLC+PT+精密減壓閥實現(xiàn)壓力開環(huán)控制

2.上盤減震裝置：動靜態(tài)均適用的減振彈性連接方式

3.精密傳動系統(tǒng)：**小齒隙全齒輪傳動，傳動平穩(wěn)

4.下盤支撐：**結(jié)構(gòu)軸承支撐

5.**速度控制：自編程實現(xiàn)低速平穩(wěn)、啟停運轉(zhuǎn)控制

6.清洗：低臺面、半裸式接液盆結(jié)構(gòu)提高清洗的便捷性





蘇州博宏源機(jī)械制造有限公司專注于研磨/拋光設(shè)備等

• 詞條

  詞條說明

• 6B拋光墊供應(yīng)商詢問報價

  平面研磨機(jī)在進(jìn)行研磨拋光加工的過程中，合理選擇運動方式以及研磨軌跡對工件的精密度提升至關(guān)重要，研磨運動中較主要的是在于實現(xiàn)磨料的切削運動,因此運動狀況的好壞，將會直接的影響研磨加工時的精度以及生產(chǎn)的效率，所以，平面研磨機(jī)在研磨加工運動中，研磨運動應(yīng)滿足以下幾點： 1、在加工工件時，整個研磨運動自始至終都應(yīng)該力求平穩(wěn)。所以，工藝上對研磨、拋光盤自身的平面度要求很高，盤體的平面度可以采用特殊的熱處理

• 22BF-4M5P精密雙面平面拋光機(jī),拋光機(jī)

  22BF-4M5L精密雙面平面研磨機(jī) 22BF-4M5P精密雙面平面拋光機(jī) 主要用途 主要用于藍(lán)寶石、藍(lán)玻璃、陶瓷片、晶體、半導(dǎo)體及其他硬脆材料的**雙面研磨/拋光，尤其對于**薄工件的加工具有明顯的優(yōu)勢 主要特點 1.壓力控制精1確：PLC+PT+電氣比例閥+低摩擦氣缸實現(xiàn)**壓力控制 2.上盤調(diào)心靈活：新型上盤調(diào)心裝置，旋轉(zhuǎn)與調(diào)心動作分離，較1大**了上下盤動態(tài)條件下的吻合度 3.主機(jī)精度

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  13BF-3M9L精密雙面平面研磨機(jī) 13BF-3M9P精密雙面平面拋光機(jī) 一、主要用途 主要用于藍(lán)寶石、藍(lán)玻璃、陶瓷片、晶體、半導(dǎo)體及其他硬脆材料的**雙面研磨拋光，尤其對于**薄工件的加工具有明顯的優(yōu)勢。 二、產(chǎn)品特點 1、壓力精密控制：PLC+PT+電氣比例閥+低摩擦氣缸實現(xiàn)**壓力閉環(huán)控制； 2、上盤減震裝置：動靜態(tài)均適用的減振彈性連接方式； 3、精密傳動系統(tǒng)：**小齒隙全齒輪傳動；

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  拋光機(jī)先容以及利用要領(lǐng)闡明 拋光機(jī)拋光時，試樣磨面與拋光盤應(yīng)jue對平行并勻稱地輕壓在拋光盤上，細(xì)致防備試樣飛出和因壓力太大而孕育發(fā)生新磨痕。同時還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑偏向來回移動，以制止拋光物局部磨損太快。在拋光歷程中要不停添加拋光液或別的拋光助劑，使拋光物連結(jié)肯定濕度。 濕度太大會削弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相出現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬混合物及鑄鐵中石墨相孕育發(fā)生“曳尾”征象;濕度太小時，由