釕靶材廠家淺談常見的靶材

時間：2022-08-28作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：461

釕靶材廠家淺談常見的靶材




我們都了解靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。



靶材種類比較多,有金屬類、合金類、氧化物類等等,用的行業(yè)也有所不同,應用很廣泛。那么常見的金屬靶材有哪些?濺射靶材是否希缺資源?下面我們一起了解一下。


一、常見金屬靶材的種類


常規(guī)金屬靶材鎂Mg、錳Mn、 鐵Fe、鈷CO、 鎳Ni、銅Cu、 鋅Zn、鉛Pd、 錫Sn、鋁AL


小金屬靶材銦In、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、 鎘Cd


難熔金屬靶材鈦Ti、鋯Zr、鉿Hf、釩V鈮Nb、 鉭Ta、銘Cr. 鉬Mo、鎢W、錸Re


貴金屬靶材金Au、銀Ag、鈀Pd、鉑Pt. 銥lr、 釕Ru、銠Rh、鋨Os


半金屬靶材碳C、硼B(yǎng)、碲Te、 硒Se


二、濺射靶材是否屬于**資源


稀有金屬,通常指在自然界中含量較少或分布稀散的金屬，它們難于從原料中提取,在工業(yè)上制備和應用較晚。但在現(xiàn)代工業(yè)中有廣泛的用途。中國稀有金屬資源豐富，如鎢、鈦、稀土、釩、鋯、鉭、鈮、鋰、鈹?shù)纫烟矫鞯膬α?，正在逐步建立稀有金屬工業(yè)體系。


稀有輕金屬：包括鋰Li、銣Rb、銫Cs、鈹Be。比重較小,化學活性強。


稀有難熔金屬：包括鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉬、鎢。熔點較高，與碳、氮、硅、硼等生成的化合物熔點也較高。


稀有分散金屬：簡稱稀散金屬,包括鎵、銦、鉈、鍺、錸以及硒、碲。大部分賦存于其他元素的礦物中。


稀有稀土金屬：簡稱稀土金屬,包括鈧、釔及鑭系元素。它們的化學性質(zhì)非常相似,在礦物中相互伴生。


稀有放射性金屬：包括**存在的鈁、鐳、釙和錒系金屬中的錒、釷、鏷、鈾，以及人工制造的锝、钷、錒系其他元素和104至107號元素。




上述分類不是十分嚴格的。有些稀有金屬既可以列入這一類又可列入另一類。例如錸可列入稀散金屬也可列入稀有難熔金屬。但是從上述描述中不難看出，有些特殊應用的濺射靶材的金屬成分的確屬于**資源。







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關(guān)鍵詞：  釕靶材  鉻靶材  銀靶材

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• 詞條

  詞條說明

• 常見的金屬靶材有哪些?

  靶材便是快速荷能粒子負電子的總體目標原材料。靶材類型比較多,有金屬類、合金類、金屬氧化物類這些,用的領域也各有不同,運用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?普遍金屬靶材的類型如下所示基本金屬軋材鎂Mg、錳M、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫S、鋁AL小金屬靶材銦I、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd硅化物金屬靶材鈦Ti、鍇Zr、鉿Hf、釩V鈮№b、鉭Ta、銘Cr、鉬M、鎢W、錸

• 靶材的制作方法、分類及應用

  現(xiàn)階段靶材的制取關(guān)鍵有鑄造法和粉未冶金法。鑄造法：將一定成份配制的合金原材料熔煉，再將合金飽和溶液澆筑于模貝中，產(chǎn)生澆鑄，較終經(jīng)機械加工制造做成靶材，鑄造法在真空泵中熔煉、鑄造。常見的熔煉方式 有真空泵磁感應熔煉、真空泵電孤熔煉和真空電子負電子熔煉等，其特點是靶材殘渣含量（尤其是汽體殘渣含量）低，相對密度高，可進口替代；缺陷是對溶點和相對密度相距過大的二種或兩種以上金屬材料，一般熔煉法難以獲得成份

• 靶材在真空鍍膜中的應用

  新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成

• 鈀靶材的制作方法

  目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法：將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金溶液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經(jīng)機械加工制成靶材，鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，其優(yōu)點是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低，密度高，可大型化;缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法：將一定成分