無氰堿銅

時間：2013-10-14作者：仁昌科技瀏覽：67

工藝特點(diǎn)
CU200是我公司引進(jìn)國外技術(shù)較新研制開發(fā)的新一代無氰鍍銅新工藝，其特點(diǎn)如下：
不含劇毒物質(zhì)，很適用于鋼鐵件、黃銅件、鋁合金、鋅合金工件作底層電鍍，結(jié)合力強(qiáng)
鍍液穩(wěn)定**，壽命長
鍍液活性強(qiáng)，陰極較化電位大，鍍層可加厚，光亮度高，無脆性
廢水處理容易，只需加沉淀劑就可以除去**物，可達(dá)標(biāo)排放。


鍍液配制(掛鍍，以100L為例)
鍍槽中加入60L去離子水，加人30L200A溶液(內(nèi)含銅900g)，攪拌。
用50%KOH溶液調(diào)pH值，控制溶液pH值9.5。
加入200B光亮劑10L，攪拌，加去離子水達(dá)工作體積，攪拌均勻。
加熱至工作溫度，試鍍。


鍍液的控制與維護(hù)
200A電鍍濃縮液為基礎(chǔ)基質(zhì)提供銅。在電鍍過程中，沉積的銅由陽極侵蝕補(bǔ)充。帶出的復(fù)雜藥劑由添加200B補(bǔ)充。一般只在新配槽或鍍液功能竭盡時才能添加200A。鍍液中銅含量，掛鍍一般維持在8~10g/L，滾鍍維持在6~8g/L。在生產(chǎn)過程中由于鍍液的帶出損耗和電極過程的損失，可根據(jù)化學(xué)分析進(jìn)行補(bǔ)充，每缺少銅lg/L，可補(bǔ)充200A33mL/L。
200B補(bǔ)充液中含復(fù)雜藥劑，它的添加可作為帶出的補(bǔ)充和因電化學(xué)作用而消耗的量，過少將會引起結(jié)合力下降，輕微過量將不會引起什么不良影響。200B補(bǔ)充液中含有較強(qiáng)酸性物質(zhì)，所以添加小心，且加入后需要用50%的氫氧化鉀調(diào)整pH值。200B的消耗量約為100~150mL/kAh，也可根據(jù)霍爾槽試驗(yàn)添加。
鍍液的pH值應(yīng)控制在9.5~10，不可**9，以免影響鍍層結(jié)合力，升高pH值用碳酸鉀，降低pH值用200B。
陽極材料采用軋制高純銅板為好，為防止陽極泥及銅粉污染鍍液，較好用尼龍?zhí)?，并連續(xù)過濾鍍液。
應(yīng)嚴(yán)格防止CN一和鐵、銅、鎳、鉻等金屬離子污染槽液，導(dǎo)致鍍層外觀變差，產(chǎn)生霧狀，結(jié)晶粗糙，色澤暗紅等缺陷

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  工藝特點(diǎn) CU200是我公司引進(jìn)國外技術(shù)較新研制開發(fā)的新一代無氰鍍銅新工藝，其特點(diǎn)如下： 不含劇毒物質(zhì)，很適用于鋼鐵件、黃銅件、鋁合金、鋅合金工件作底層電鍍，結(jié)合力強(qiáng) 鍍液穩(wěn)定**，壽命長 鍍液活性強(qiáng)，陰極較化電位大，鍍層可加厚，光亮度高，無脆性 廢水處理容易，只需加沉淀劑就可以除去**物，可達(dá)標(biāo)排放。 鍍液配制(掛鍍，以100L為例) 鍍槽中加入60L去離子水，加人30L200A溶液(內(nèi)含銅90

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