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    粗蠟拋光:砂紙研磨后進(jìn)一步去除表面砂紙痕,恢復(fù)漆面平整度和初始光澤。將蠟均勻涂抹在一定漆面區(qū)域內(nèi)(單次拋光面積在一臂展長寬范圍內(nèi)為宜)拋光機轉(zhuǎn)速控制在1200-2000轉(zhuǎn)之間。初期以中等偏上的壓力壓住拋光盤均速拋光漆面,觀察漆面,待砂紙痕明顯拋除后放松壓力將蠟痕拋開,回復(fù)漆面一定的光澤。拋光后應(yīng)使用**細(xì)纖維布擦拭干凈漆面殘留的粗蠟和粉塵。質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):去除砂紙在漆面上造成的砂紙痕,漆面呈現(xiàn)處部分光澤。2.2 鏡面拋光:去除粗蠟拋光殘留的圈紋,恢復(fù)車漆的原有光澤。質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):漆面無明顯圈紋,出現(xiàn)鏡面效果,光澤度比拋光前得到有效改善。3、還原:找回車漆的本來面目,恢復(fù)新車般的狀態(tài)。質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):光澤度明顯比拋光前得到改善,倒影清晰可見。為了確定使用研磨劑的種類,需對漆面問題進(jìn)行判斷。在不明顯處的小塊面積使用研磨劑。研磨劑**選用輕度研磨劑,如果漆面缺陷較嚴(yán)重,考慮選用中度或重度研磨劑。



    )溫度.對化學(xué)拋光的效率和表面質(zhì)量有重要的影響.溫度高拋光加速,但產(chǎn)生較多的氣體,有可能產(chǎn)生氣體缺陷.對于新配制的化學(xué)拋光槽液,溫度不宜太高;若溶鋁量達(dá)到平衡時操作溫度宜高些.隨著溶鋁量的增加,要維持一定的拋光效率就要提高槽液的溫度,如果槽液溫度**過設(shè)定的上限溫度105℃,仍不能得到滿意的光亮度,應(yīng)根據(jù)化驗結(jié)果調(diào)整槽液濃度或相對密度.此外,還要注意保持槽液各處溫度的均勻性.



    多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。氧化硅拋光液氧化硅拋光液(CMP拋光液)是以高純?yōu)樵希?jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。




    昆山市韓鋁化學(xué)表面材料有限公司專注于化工原料及產(chǎn)品,五金材料,化學(xué)試劑等

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    詞條說明

  • 化學(xué)拋光價格服務(wù)至上

    拋光時,高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪(圓周速度在20米/秒以上)壓向工件,使磨料對工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削,從而獲得光亮的加工表面,表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63~0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時,可對光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時,常采用滾筒拋光的方法。粗拋時將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中,滾筒轉(zhuǎn)動時,使鋼球與磨料等在筒內(nèi)隨機地滾動碰撞以達(dá)到去除表面凸鋒而減小表面粗糙

  • 鋁陽極氧化廠歡迎來電,昆山韓鋁化學(xué)表面

    1、陽極氧化膜生成的一般原理。以鋁或鋁合金制品為陽極置于電解質(zhì)溶液中,利用電解作用,使其表面形成氧化鋁薄膜的過程,稱為鋁及鋁合金的陽極氧化處理。其裝置中陰極為在電解溶液中化學(xué)穩(wěn)定性高的材料,如鉛、不銹鋼、鋁等。鋁陽極氧化的原理實質(zhì)上就是水電解的原理。當(dāng)電流通過時,在陰極上,放出氫氣;在陽極上,析出的氧不僅是分子態(tài)的氧,還包括原子氧(O)和離子氧,通常在反應(yīng)中以分子氧表示。作為陽極的鋁被其上析出的氧

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    粗蠟拋光:砂紙研磨后進(jìn)一步去除表面砂紙痕,恢復(fù)漆面平整度和初始光澤。將蠟均勻涂抹在一定漆面區(qū)域內(nèi)(單次拋光面積在一臂展長寬范圍內(nèi)為宜)拋光機轉(zhuǎn)速控制在1200-2000轉(zhuǎn)之間。初期以中等偏上的壓力壓住拋光盤均速拋光漆面,觀察漆面,待砂紙痕明顯拋除后放松壓力將蠟痕拋開,回復(fù)漆面一定的光澤。拋光后應(yīng)使用**細(xì)纖維布擦拭干凈漆面殘留的粗蠟和粉塵。質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):去除砂紙在漆面上造成的砂紙痕,漆面呈現(xiàn)處部分光澤。

  • 杭州陽極氧化工藝服務(wù)介紹

    整平光亮工藝所謂整平光亮工藝,是繼拋光、堿蝕、酸蝕之后推出的一項新的表面前處理工藝,是對堿蝕、酸蝕工藝的深刻改造和變革,它既具有酸蝕鋁耗低、去機械紋能力強、起砂快的優(yōu)點,又具有拋光的亮麗,但卻根本杜絕了拋光NOx污染、酸蝕氟化物污染、堿蝕堿渣污染等弊端,是一項頗具前途、具有革命性的新工藝。 (一)工藝流程整平光亮工藝比酸蝕、堿蝕要簡單得多,甚至比拋光工藝都簡單,主要由下述工序組成:整平光亮→水洗

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