晶圓切割有哪幾種方法
現(xiàn)階段,硬脆材料切割技術(shù)主要有外圓切割、內(nèi)圓切割和線銘切割。外圓切割組然操作簡(jiǎn)單,但據(jù)片剛性差,切割全過(guò)程中鋸片易方向跑偏.造成 被切割工們的平面度差:而內(nèi)圓切割只有進(jìn)行直線切割.沒(méi)法進(jìn)行斜面切割.線鋸切割技術(shù)具備割縫窄、高效率、切成片*、可進(jìn)行曲線圖切別等優(yōu)點(diǎn)成為口前普遍選用的切割技術(shù)。
內(nèi)圓切割時(shí)晶片表層損害層大,給CMP產(chǎn)生挺大黔削拋光工作中較:刃口寬.材料損害大.品片出率低:成木高。生產(chǎn)效率低:每一次只有切割一片.當(dāng)晶圓直徑達(dá)到300mm時(shí).內(nèi)圓刀頭外徑將達(dá)到1.18m.內(nèi)徑為410mm.在生產(chǎn)制造、安裝與調(diào)節(jié)上產(chǎn)生許多艱難.故后期主要發(fā)展趨勢(shì)線切別主導(dǎo)的晶圓切割技術(shù)。
金剛石線鋸足近十幾年來(lái)得到 *發(fā)展趨勢(shì)的硬脆材料切割技術(shù).包含自由助料線鋸和固結(jié)耐磨材料線鋸兩大類。依據(jù)鋸絲的運(yùn)動(dòng)方式和機(jī)冰構(gòu)造.又可分成往復(fù)式和單邊(環(huán)狀)線鋸。
現(xiàn)階段在光電材料工業(yè)生產(chǎn)中,應(yīng)用較為普遍的是往復(fù)式多線鋸晶圓切割。
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詞條
詞條說(shuō)明
石英玻璃視鏡使用注意事項(xiàng):1、每種石英玻璃都有一個(gè)使用溫度,在使用中不應(yīng)**過(guò)這個(gè)溫度,不然會(huì)析晶或軟化變形。2、在高溫使用的石英玻璃,使用之前應(yīng)擦拭干凈??梢韵扔孟匆航?,用高純水清洗或酒精處理。3、在高溫下可以允許連續(xù)用石英玻璃制品,這會(huì)對(duì)延長(zhǎng)石英玻璃壽命和提高耐溫性能。但在高溫下間歇使用石英玻璃制品,使用次數(shù)是有限的。4、石英玻璃是酸性的材料,高溫使用時(shí)需要嚴(yán)格避免與堿性物質(zhì)接觸,否則會(huì)大大降
半導(dǎo)體晶圓切割液配方技術(shù)晶圓是硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓,是制造IC的基本原料。硅晶圓是指硅元素加以純化(99.999%),接著是將這些純硅制成長(zhǎng)硅晶棒,成為制造積體電路的石英半導(dǎo)體的材料,經(jīng)過(guò)照相制版、研磨、拋光、切片等程序,將多晶硅融解拉出單晶硅晶棒,然后切割成一片一片薄薄的晶圓。在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能的集成電路產(chǎn)品。半
光學(xué)鍍膜? ? ?光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。在可見(jiàn)光和紅外線波段范圍內(nèi),大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%,但不可**98%。無(wú)論是對(duì)于CO 2激光,采用銅、鉬、硅、鍺等來(lái)制作反
濾光片是用來(lái)選取所需輻射波段的光學(xué)器件,是一種不僅能衰減光強(qiáng)度,還可以改變光譜成分或限定振動(dòng)面的光學(xué)零件。濾光片的一個(gè)共性,就是沒(méi)有任何濾光片能讓目標(biāo)的成像變得較明亮,因?yàn)樗械臑V光片都會(huì)吸收某些波長(zhǎng),從而使物體變得較暗。濾光片原理濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的,紅色濾光片只能讓紅光通過(guò),以此類推。玻璃片的透射率原本與空氣差不多,所有色光都可以通過(guò),所以濾光片是透明的,但是染了染料后,分
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