模具鍍膜工藝優(yōu)選企業(yè) 百樂真空-真誠為顧客

時間：2020-03-09

作者：沈陽百樂真空技術有限公司

真空鍍膜對面涂層的要求：與鍍膜層要有良好的接觸性能;

與底涂層要有一定的相溶性;成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當?shù)臋C械強度;防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好?？估匣阅軓?。

由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

常用涂料:

真空鍍常用涂料有紫外光固化涂料、丙烯酰酯涂料、醇酸樹脂涂料、環(huán)氧樹脂涂料、聚氨酯涂料等。

濺鍍機設備與技能(磁控濺鍍)

濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和操控系統(tǒng)構成。因為在鍍膜過程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴重的還會脫鈦。濺射源又分為電源和濺射槍磁控濺射槍分為平面型和圓柱型，其間平面型分為矩型和圓型，靶資料利用率30- 40%，圓柱型靶資料利用率>50% 濺射電源分為：直流、射頻、脈沖，直流：800-1000V(Max)導體用，須可災弧。

射頻：13.56MHZ，非導體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出濺鍍時須操控參數(shù)有濺射電流，電壓或功率，以及濺鍍壓力(5×10-1—1.0Pa)，若各參數(shù)皆安穩(wěn)，膜厚能夠鍍膜時刻估量出來。

真空與鍍膜結合改變了以往的鍍膜工藝，轉變了鍍膜技術，實現(xiàn)自動化鍍膜功能，特別智能化，也便于維護，一個按鍵就能完成自動開關機生產(chǎn)，減少了人力資源成本。結合真空的特色鍍膜設備不必擔心產(chǎn)品鍍膜過程受雜質(zhì)影響問題，在完全真空條件下鍍制均勻、致密、附著力強的膜層，使用多種技術滿足不同產(chǎn)品鍍膜要求。在真空鍍膜技術還未出現(xiàn)的時候，用的是化學電鍍技術，此種技術污染太大，科研學者一直希望研發(fā)能代替的鍍膜技術。A3:離子鍍膜（PVD鍍膜）技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。二十世紀七十年代，隨著真空鍍膜技術的橫空出世，徹底顛覆化學電鍍技術，此技術不僅解決污染問題，所能鍍制的產(chǎn)品范圍較廣，它的特色之一是可以鍍制很多化學電鍍不能實現(xiàn)的鍍膜。

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詞條說明
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