PM864AK01

時(shí)間：2018-10-24作者：廈門仲鑫達(dá)科技有限公司瀏覽：8

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2 離心泵直接恢復(fù)啟動(dòng)的可行性 離心泵正常啟動(dòng)前要關(guān)閉出口閥， 原因是：降低離心泵的啟動(dòng)負(fù)荷， 以減小電機(jī)的啟動(dòng)電流，使其在功率較小的條件下啟動(dòng)。遇到閃電離心泵停運(yùn)時(shí)， 能否不關(guān)閉出口閥直接啟泵成為解決問題的關(guān)鍵。 當(dāng)離心泵停運(yùn)時(shí)， 慣性電機(jī)沒有立即停下， 有一個(gè)逐漸減速然后到靜止的過程。電機(jī)的啟動(dòng)電流與電機(jī)負(fù)荷和轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)差率等因素有關(guān)， 即轉(zhuǎn)差率越大， 啟動(dòng)電流也就越大。電機(jī)轉(zhuǎn)子靜止啟動(dòng)時(shí)， 轉(zhuǎn)差率較大； 在其較高轉(zhuǎn)速下啟動(dòng)，轉(zhuǎn)差率較小。因此遇到閃電時(shí)電機(jī)轉(zhuǎn)子靠慣性運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)期， 轉(zhuǎn)差率比電機(jī)靜止?fàn)顟B(tài)下要小， 此時(shí)轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速尚未完全降低到零時(shí)對(duì)其恢復(fù)啟動(dòng)，其啟動(dòng)電流應(yīng)該比靜止?fàn)顟B(tài)下的啟動(dòng)電流小。 對(duì)此我們選擇1臺(tái)離心泵，對(duì)其電機(jī)停運(yùn)后的瞬間恢復(fù)啟動(dòng)電流進(jìn)行了測(cè)試（電機(jī)的額定電流為1 5A）。經(jīng)試驗(yàn)測(cè)定，其關(guān)閉出口閥正常啟動(dòng)時(shí)較大啟動(dòng)電流為90A，在未關(guān)閉出口閥條件下，針對(duì)不同時(shí)間間隔的電機(jī)恢復(fù)啟動(dòng)電流統(tǒng)計(jì)見表1。

DYNAPAR MAX JR MCJR2S00 COUNT 2 DIGITAL PROGRAMMABLE 


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GENERAL ELECTRIC CR445YC001 MEMORY & DATA INTERFACE BOARD C766608B 


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廈門仲鑫達(dá)科技有限公司專注于AB,GE,施耐德等

• 詞條

  詞條說明

• MVI56-GEC

  ?計(jì)算機(jī)集散控制系統(tǒng)已經(jīng)普遍用于各種工業(yè)生產(chǎn)，能夠滿足各種不同工藝生產(chǎn)的控制和管理要求，因此，我公司在新型干法水泥生產(chǎn)線上也引進(jìn)瑞士ABB公司AdvantOCS開放控制系統(tǒng)，用于生產(chǎn)線上所有設(shè)備的計(jì)算機(jī)控制和管理生產(chǎn)。 ?1、Advant OCS開放控制系統(tǒng)基本配置及硬件組成? 1.1 系統(tǒng)基本配置 ABB Advant開放控制系統(tǒng)基本配置如圖1。該系統(tǒng)有控制網(wǎng)絡(luò)通訊

• 07AB63R1

  ?a、一個(gè)典型的WDFP系統(tǒng)組成： 分布處理單元DPU負(fù)責(zé)完成數(shù)據(jù)采集和控制（包括模擬和邏輯控制）功能。 操作員站OS用于信息顯示和報(bào)警，以及操作員監(jiān)控。 工程師ES用于系統(tǒng)軟件編程及調(diào)試維護(hù)等。 記錄站LOG用于對(duì)過程數(shù)據(jù)進(jìn)行收集、格式化和打印。 歷史數(shù)據(jù)站HDR用于對(duì)過程點(diǎn)數(shù)據(jù)以及手動(dòng)輸入離線數(shù)據(jù)記錄和存檔，將存檔的數(shù)據(jù)進(jìn)行檢索以產(chǎn)生歷史趨勢(shì)和自由格式的報(bào)告。 歷史的存儲(chǔ)和檢索HSR

• 086444-005 模塊

  ?**控制系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)? PX聯(lián)合裝置**控制系統(tǒng)采用浙江中控軟件技術(shù)有限公司的**控制產(chǎn)品：**控制軟件平臺(tái)ESP-iSYS-A和**多變量魯棒預(yù)測(cè)控制軟件APC-Adcon。其中，APC-Adcon通過ESP-iSYS-A、OPC Server與DCS之間進(jìn)行數(shù)據(jù)雙向通訊。 PX聯(lián)合裝置**控制系統(tǒng)包含16個(gè)精餾塔、7個(gè)加熱爐和2個(gè)反應(yīng)器。其中，按照工藝單元分成八個(gè)子控制器

• IS200TRMBH1

  ?在電鍍金屬做成的真空系統(tǒng)，就像是鋅和鋁薄膜那樣是非常普遍的電容行業(yè)。它的主要目標(biāo)是盡可能在保持薄膜張力的同時(shí)增加薄膜傳輸速度。薄膜的張力和速度應(yīng)以一個(gè)參考**被保存起來，主要問題就是薄膜速度和張力之間的耦合。而它們之間的速度有很多的擾亂源（輥非圓，膜滑動(dòng)。如果傳遞速度波動(dòng)，將會(huì)導(dǎo)致模的處理不均勻；另一方面，不適當(dāng)?shù)膹埩赡軐?dǎo)致皺紋或者薄膜破裂，而一旦薄膜破裂，操作工人就需要再次打開繞組