**場效應(yīng)晶體管(OFETS)是一種有源裝置,它能夠通過改變柵較電壓來改變半導(dǎo)體層的導(dǎo)電特性,然后操縱通過源漏較的電流。**場效應(yīng)晶體管作為電路中的基本元件,以其低功耗、高阻抗、、可大面積生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn),受到了廣泛的重視,并得到了迅速的發(fā)展。其組成元器件主要由電極、**半導(dǎo)體、隔熱層和基板組成,這些元件對OFET的性能有很大影響。通過電漿清洗機(jī)對電極、**半導(dǎo)體、絕緣層和基片進(jìn)行處理,提高了材料的功能。
1、基片襯底——電漿清洗機(jī)等離子處理,除去基片表面雜質(zhì),改善表面活性
基片一般在晶體管的底層,首部起著支撐作用。可用作OFET的基片材料:玻璃、硅片、石英、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯萘(PEN)、聚酰(PI)、聚乙烯(PET)等。無機(jī)基板有高熔點(diǎn)、表面光滑的優(yōu)點(diǎn),如玻璃、硅片、石英。雖然表面看起來很粗糙,但是這些數(shù)據(jù)顯示了像聚乙烯萘(PEN)和聚乙烯(PET)這樣的彈性可彎曲材料。電漿清洗機(jī)處理的襯底需要在準(zhǔn)備階段對襯底進(jìn)行處理,以去除襯底表面雜質(zhì),提高表面活性。2、電極處理-電漿清洗機(jī)等離子處理
在**場效應(yīng)晶體管(OFET)中,電極是另一重要元件。通常認(rèn)為,當(dāng)**半導(dǎo)體層/電極界面的電勢壘高度△E詞條
詞條說明
冶金涂層方法用于各種工程產(chǎn)品中,以提高它們的抗蝕性,耐磨性,疲勞強(qiáng)度和表面硬度。涂覆的方法有二種,一種是在工件表面上附著一層物質(zhì);另一種是從工件表面向里形成一層不同物質(zhì)的擴(kuò)散層,該層具有可以測定的濃度梯度,而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如,目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴(kuò)散層,用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料,它具有介電性能穩(wěn)定,介質(zhì)損耗小,耐潮性好,溫度系數(shù)好等優(yōu)點(diǎn),具有較其穩(wěn)定的化學(xué)性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來,常壓plasma等離子處理
電漿清洗機(jī)清洗**場效應(yīng)晶體管(OFET)材料的重要性
**場效應(yīng)晶體管(OFETS)是一種有源裝置,它能夠通過改變柵較電壓來改變半導(dǎo)體層的導(dǎo)電特性,然后操縱通過源漏較的電流。**場效應(yīng)晶體管作為電路中的基本元件,以其低功耗、高阻抗、、可大面積生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn),受到了廣泛的重視,并得到了迅速的發(fā)展。其組成元器件主要由電極、**半導(dǎo)體、隔熱層和基板組成,這些元件對OFET的性能有很大影響。通過電漿清洗機(jī)對電極、**半導(dǎo)體、絕緣層和基片進(jìn)行處理,提高了材料的功能
基因芯片又稱作寡核苷酸微陣列,它是通過**固相生成技術(shù)或探針固定化技術(shù),將一系列不同序列的寡核苷酸按陣列分布固定在固相載體上?,F(xiàn)階段作為基因微陣列原位生成的載體多以玻璃片和硅單晶,而pp聚丙烯膜、尼龍膜等高分子材料微孔膜,則大多用于點(diǎn)樣法生物芯片的制備,這種膜作為芯片載體熒光背景強(qiáng),過去必須采用同位素檢測,因而不為人們所青睞。?????  
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