Atseva光頻梳狀合成器EFO-COMB

時(shí)間：2022-02-17作者：天津瑞利光電科技有限公司瀏覽：63

天津瑞利光電科技有限公司優(yōu)勢(shì)經(jīng)銷美國(guó)Atseva光頻梳狀合成器EFO-COMB

產(chǎn)品型號(hào)：EFO-COMB

關(guān)鍵字：Atseva光頻梳狀合成器EFO-COMB

關(guān)鍵字描述：光學(xué)合成器單元是一個(gè)交鑰匙設(shè)備，包括摻鐿鎖模光纖激光器，具有穩(wěn)定的脈沖重復(fù)頻率frep和載波包絡(luò)偏移fceo。

產(chǎn)品介紹：

全光纖PM方案可實(shí)現(xiàn)24/7操作

520-2200 nm全光譜覆蓋

完整的單源頻率梳系統(tǒng)

節(jié)拍檢測(cè)單元（可選）

靈活的自定義（例如DFG）

EFO-COMB是一款高精度光學(xué)頻率合成器，設(shè)計(jì)用于多種研究和工業(yè)應(yīng)用，例如原子激光冷卻，高精度長(zhǎng)度測(cè)量，光學(xué)時(shí)鐘，激光雷達(dá)，天文學(xué)，**穩(wěn)定微波發(fā)生器，頻率參考信號(hào)的光學(xué)傳輸。光學(xué)合成器單元是一個(gè)交鑰匙設(shè)備，包括摻鐿鎖模光纖激光器，具有穩(wěn)定的脈沖重復(fù)頻率frep和載波包絡(luò)偏移fceo。梳狀發(fā)生器單元可以設(shè)計(jì)為參考RF參考源（在1 s時(shí)提供5 * 10 ^ -13的傳輸穩(wěn)定性），以及參考光學(xué)系統(tǒng)（在1s時(shí)低至~1 * 10 ^ -16）1秒）。該系統(tǒng)具有一個(gè)內(nèi)置的**連續(xù)譜發(fā)生器和一個(gè)f-2f干涉儀，用于穩(wěn)定光纖。標(biāo)準(zhǔn)單元具有4個(gè)1560 nm左右的低功率光纖耦合輸出，可用于各種應(yīng)用和各種可選功能的連接。全PM光纖布局確保了交鑰匙的不間斷運(yùn)行。一個(gè)單獨(dú)的控制機(jī)架包含PSU-CU單元，鎖相環(huán)（PLL）單元，數(shù)據(jù)收集和指示系統(tǒng)。

參數(shù)：

梳齒間距（Frep）：100 MHz

連接到射頻參考的穩(wěn)定性：<5?10 ^ -13在1 s或與參考相同

與光學(xué)參考連接的穩(wěn)定性：<1?10 ^ -16 at 1 s或與參考相同

梳齒間距的調(diào)諧范圍：> 0.7 MHz

偏移頻率Fceo的調(diào)諧范圍：> 100 MHz

光學(xué)輸出：2個(gè)或4個(gè)光纖耦合輸出端口或準(zhǔn)直的自由空間輸出，分別在1560 nm，520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波長(zhǎng)要求（可選）

中心波長(zhǎng)（固定）：1560±10 nm

全光譜覆蓋（帶有其他選項(xiàng)）：520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波長(zhǎng)可根據(jù)要求提供

每個(gè)輸出的輸出功率：> 5 mW；

> 250 mW @ 1560 nm（可選）;

> 200 mW @ 1000-2200 nm（可選）;

> 80 mW @ 520-1000 nm（可選）

光學(xué)單元尺寸（長(zhǎng)x寬x高）：356 x 492 x 110 mm

控制機(jī)架尺寸（寬x長(zhǎng)）：640 x 553 mm（機(jī)架高度取決于確切的配置）

 

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