新品OE750|金屬總量控制的新一代OES分析方法

時(shí)間：2019-12-18作者：廣州明陽(yáng)機(jī)電有限公司瀏覽：6

金屬行業(yè)從業(yè)者的經(jīng)營(yíng)狀況正處于凌冽寒冬時(shí)期。在冶煉使用廢料的過(guò)程中，鑄造廠和煉鋼廠所承受的壓力只增不減。供應(yīng)鏈變得愈加復(fù)雜，甚至可能較加不可靠。痕量元素的立法越來(lái)越嚴(yán)格。因此，為確保持續(xù)生產(chǎn)符合所有規(guī)范和立法的優(yōu)質(zhì)盈利產(chǎn)品，鑄造廠和金屬加工企業(yè)需要測(cè)量和控制進(jìn)出其場(chǎng)所的材料。這可能會(huì)產(chǎn)生問(wèn)題。

為符合材料規(guī)范，必須測(cè)試所有事項(xiàng)?，F(xiàn)行規(guī)范已**過(guò)許多中端OES光譜儀所能處理的范圍。**OES光譜儀對(duì)許多企業(yè)而言遙不可及，可能不適合高產(chǎn)量生產(chǎn)環(huán)境。日立分析儀器的新型OE750便為解決此問(wèn)題而應(yīng)運(yùn)而生。

介紹OE750：專為全新級(jí)OES分析而設(shè)計(jì)

OE750是一款*創(chuàng)性設(shè)備。這款OES光譜儀具有**儀器的性能，但其購(gòu)買價(jià)格優(yōu)惠，運(yùn)行成本合理。目前，其是同類產(chǎn)品中一能夠?qū)崿F(xiàn)全新級(jí)OES分析的光譜儀，例如：

分析鋼鐵中所有合金、處理、痕量元素、殘余元素和夾雜元素的能力。OE750能提供較低的檢出限，可檢測(cè)含量**10ppm的銻、硼、鉛、氮、鋅、鉍、硒和碲。

符合經(jīng)修訂的ASTM E415中有關(guān)碳鋼和低合金鋼測(cè)試方法和ASTM E1086中有關(guān)不銹鋼分析標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法的要求。此款分析儀可輕松檢測(cè)含量為10ppm的氮元素。

允許鋁壓鑄機(jī)將近共晶和過(guò)共晶鋁-硅合金中的磷、銻和鉍的含量控制在較低限值內(nèi)。控制此類元素及其他夾雜元素和痕量元素可確保鋁加工廠對(duì)優(yōu)化熔體結(jié)構(gòu)具備較強(qiáng)的控制能力。

輕松檢測(cè)含量為1ppm的廢金屬中的痕量元素，包括鋅。這對(duì)回收汽車部件或分揀來(lái)料廢品至關(guān)重要。

通過(guò)分析氮、氧和氫等氣體元素，控制鈦的生產(chǎn)。

分析精煉廠中銅陽(yáng)極以及鑄造廠中黃銅、青銅、錫青銅和其他銅合金的潛力。

全面的痕量元素分析，用于支持**金屬加工和成型廠所用進(jìn)料的材料可靠性鑒定測(cè)試。

此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠***出于成本考量而降低性能標(biāo)準(zhǔn)。對(duì)于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬?gòu)S而言，OE750以具有成本效益的價(jià)格，提供全新級(jí)OES分析。

較致質(zhì)量控制，符合標(biāo)準(zhǔn)

OE750在同類產(chǎn)品中具有較佳光學(xué)分辨率，并涵蓋金屬中元素的整個(gè)光譜，能提供某些較低檢出限。此性能通過(guò)構(gòu)思新光學(xué)概念和發(fā)展其他技術(shù)創(chuàng)新而實(shí)現(xiàn)，例如新型密封火花臺(tái)和火花放光源。

額外優(yōu)點(diǎn)（例如：?jiǎn)?dòng)速度加快，維護(hù)間隔縮短）確保光譜儀支持高產(chǎn)量生產(chǎn)和** 的PMI質(zhì)量保證計(jì)劃。


廣州明陽(yáng)機(jī)電有限公司專注于光譜儀,便攜式光譜儀,手持光譜儀等, 歡迎致電 13640278226

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 直讀光譜儀在鉛合金分析中的應(yīng)用

  一、直讀光譜儀的慨況 原子**光譜分析所采用的原理是用電弧（或火花）的高溫使樣品中各元素從固態(tài)直接氣化并被激發(fā)而**出各元素的特征波長(zhǎng)，用光柵分光后，成為按波長(zhǎng)排列的“光譜”，這些元素的特征光譜線通過(guò)出射狹縫，射入各自的光電倍增管，光信號(hào)變成電信號(hào)，經(jīng)儀器的控制測(cè)量系統(tǒng)將電信號(hào)積分并進(jìn)行模/數(shù)轉(zhuǎn)換，然后由計(jì)算機(jī)處理，并得出各元素的百分含量。從以上原理可以看出原子**光譜分析，有其*特的、特別適合于

• 有關(guān)OES直讀光譜儀的問(wèn)題解答

  有關(guān)OES的問(wèn)題解答 工業(yè)4.0（或稱智能制造革命）持續(xù)改變著我們的工作方式。隨著計(jì)算能力和連接能力的提高，企業(yè)能夠借助物聯(lián)網(wǎng)提高流程效率。鑄造廠也加入了這場(chǎng)革命之中，而“鑄造4.0運(yùn)動(dòng)”意味著金屬鑄造廠必須不斷發(fā)展以保持競(jìng)爭(zhēng)力。 許多鑄造廠都依賴直讀光譜儀（OES）以監(jiān)測(cè)和控制熔體的化學(xué)成分，OES光譜儀所提供的分析結(jié)果在保證高質(zhì)量鑄件方面發(fā)揮著不可或缺的作用。然而，迄今為止，控制這一重要流程的

• 濕度對(duì)光譜分析儀的影響?

  濕度，通常在氣象學(xué)中指的是空氣濕度，它是空氣中水蒸氣的含量?？諝庵幸簯B(tài)或固態(tài)的水算不上在濕度中。在一定溫度下在特定體積的空氣里所含的水汽越少，則空氣越干燥;水汽越多，則空氣越潮濕。下面就跟明陽(yáng)機(jī)電一起來(lái)看看濕度對(duì)光譜分析的影響吧!如果室內(nèi)濕度太大，光譜分析儀中的光電器件、光電元件、電子元件等遭受潮濕后，易出現(xiàn)銹蝕、霉變等現(xiàn)象造成儀器接觸不良、性能降低，甚至報(bào)廢。潮濕環(huán)境還*導(dǎo)致儀器的絕緣性能變差

• 光譜分析儀的安裝條件有哪些?

  光譜分析儀是一種比較常見(jiàn)的分析儀器，具備質(zhì)量穩(wěn)定、使用靈便、可靠性高等優(yōu)點(diǎn)。規(guī)范使用光譜分析儀能夠避免故障問(wèn)題的產(chǎn)生。那么，我們就首先需要了解光譜分析儀安裝的條件。1、環(huán)境條件：(1)光譜分析儀應(yīng)放置于專門的工作空間，周邊應(yīng)無(wú)有危害、易燃及腐蝕性的氣體，不能與化學(xué)分析放到一塊兒。(2)確保至少十平方米以上空間。(3)工作溫度：(10～30)℃，因儀器工作要恒溫條件，室溫波動(dòng)要盡可能小，室內(nèi)需要安裝