光學(xué)鍍膜料的成分|光學(xué)干涉濾光片鍍膜

時間：2017-08-02作者：深圳市思貝達(dá)科技有限公司瀏覽：166

? ? ?光學(xué)薄膜是大塊材料經(jīng)過固相——液相——氣相——固相或固相——氣相——固相轉(zhuǎn)化后在基板上凝聚而成的，因而它的微觀結(jié)構(gòu)、晶體結(jié)構(gòu)以及薄膜成分都會與原始塊狀材料不同。

? ? ??絕大多數(shù)金屬幾乎都是以原子形式蒸發(fā)的，但是對于一些半導(dǎo)體和半金屬，它們多是以2個或2個以上的原子集合體逸出的。因為Sb的4個原子幾乎是以相似的共價鍵相結(jié)合，故Sb膜中主要含Sb4，同時混入Sb2和少量Sb。As多為As4和As2，Bi和Te含有相當(dāng)多的Bi2和Te2，在C，Ce，Se和Si中也都觀察到類似的集合體。

? ? ??化合物的情況較加復(fù)雜。對于硫?qū)倩衔?，蒸發(fā)時材料是分解的，例如，2ZnS→2Zn+S2。但它們在基板上又重新化合了，因而仍能得到化學(xué)計量與塊狀材料近似一致的膜層。CdTe也分解為Cd和Te2。同樣，氟化物也會引起不同程度的失氟，失氟后的膜層吸收潮氣能力提高。這種失氟現(xiàn)象與蒸發(fā)源密切相關(guān)，采用大容量的輻射蒸發(fā)源可得到與塊狀化學(xué)計量近似一致的膜層。在蒸發(fā)氧化物時，可觀察分解的O2，即使是穩(wěn)定的SiO2也包含著SiO和O2.失氧較嚴(yán)重的是TiO2，Ta2O5和NiO等，相比之下，MgO，Al2O3，BeO和CoO2幾乎接近于塊狀材料。

? ? ??濺射也包含著大量的復(fù)合原子。離子加速電壓越高，濺射的單原子越少，以濺射Cu膜為例，對多晶Cu靶，Ar+的加速電壓為100eV時，只有5%左右的Cu，其余都是Cu2.對單晶Cu（100）靶，出Cu和Cu2外，還有Cu+n（n=1~11）。用Ar+和Xe+濺射Al，也可以分別觀察到Aln（n=1~7）和Aln（n=1~18）。用Ar+濺射化合物GaAs，濺射出來的99%是Ga和As的中性原子，其余才是GaAs分子。

? ? ??光學(xué)薄膜化學(xué)成分的分析主要借助于表面分析技術(shù)。所謂表面分析技術(shù)通常就是用光子、電子或離子作為一次粒子轟擊待分析的樣品表面，粒子與固體表面相互作用，結(jié)果將引起激發(fā)粒子的放射，即二次粒子，利用這種激發(fā)和放射過程就能鑒定表面和薄膜的化學(xué)成分。








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