維爾爐業(yè)底下井式電阻爐的工藝流程及操作要點報告

時間：2012-09-24作者：江蘇維爾爐業(yè)有限公司瀏覽：113

維爾爐業(yè)底下井式電阻爐的工藝流程及操作要點報告

   ICBP系列低壓井式電阻爐結(jié)構(gòu)及工藝簡介，井式電阻爐爐滲碳工藝簡介 

   工藝流程：工件入裝料臺→進(jìn)入通道罐→上升至裝卸料室后抽真空→轉(zhuǎn)移工件至滲碳室加熱工件并進(jìn)行滲碳→向下移入絕熱室后輸送至氣淬室進(jìn)冷卻→出爐。 

   井式電阻爐操作要點：

    （1）裝卸料室：裝卸料室進(jìn)入工件后，將井式爐抽達(dá)6×102Pa,當(dāng)該室與通道罐壓力相等時，打開真空密封閥，升降機將工件下降轉(zhuǎn)移到通道罐壓內(nèi)，并傳送到滲碳室。 

    （2）加熱滲碳室及滲碳工藝：滲碳溫度920～970 ℃ （較高溫度達(dá)1250℃）。 工件在滲碳爐爐內(nèi)轉(zhuǎn)動（夾具）速度為2轉(zhuǎn)/分。 通過耐熱鋼噴頭向爐內(nèi)脈沖交替通入噴入C3H8及N2，C3H8裂解后形成[C]+H2。（一般在強滲期通C3H8時間為1～4min,通N2擴散時間為2～6min，隨后強滲期逐漸縮短，擴散期逐漸延長，具體見表）。 滲碳過程（包括滲碳和擴散過程）采用溫度、時間、 C3H8及N2的流量和壓力四個參數(shù)控制。根據(jù)工件的技術(shù)要求，采用計算機模擬確定各項技術(shù)參數(shù)，實現(xiàn)滲碳過程的自動化控制（發(fā)展動態(tài)控制技術(shù)） 

     （3）井式電阻爐氣淬采用可調(diào)的（1～20）×105Pa高純N2在井式爐爐內(nèi)形成一個冷卻通道對工件進(jìn)行冷卻。

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