真空封口機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及主要問題解答

時(shí)間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：41

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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• 恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術(shù)

  焦耳熱閃蒸技術(shù)，用于將含碳的廢料轉(zhuǎn)化為石墨烯材料。原理是利用**高溫環(huán)境將高碳含量材料變?yōu)槭?。先將這些廢料被磨成粉末，然后用高壓加熱到2000℃（3680°F到4940°F）之間。為了獲得高質(zhì)量的渦輪狀閃蒸石墨烯，閃蒸時(shí)間應(yīng)保持在30～100 ms之間。這種技術(shù)是一種較便宜制造石墨烯的方法，需要的能量也少得多，并可以將生活中廢棄的塑料碎片回收利用。在這項(xiàng)新的研究中，萊斯大學(xué)的科學(xué)家們已經(jīng)通過焦耳閃

• 你并不了解小型濺射儀

  小型濺射儀的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就

• PVD制備K型薄膜熱電偶的研究

  熱電偶元件是在工業(yè)、科研中廣泛使用的一種溫度傳感器,具有測(cè)溫范圍廣,堅(jiān)固耐用,無(wú)自發(fā)熱現(xiàn)象,使用方便等優(yōu)點(diǎn)。薄膜熱電偶除了繼承上述普通熱電偶的優(yōu)點(diǎn)外,還具有熱容小,響應(yīng)速度快,幾乎不占用空間,對(duì)被測(cè)物體影響小的優(yōu)點(diǎn)。本研究為制備K型薄膜熱電偶選擇了電子束蒸發(fā)鍍,磁控濺射,多弧離子鍍?nèi)NPVD方法。其中一部分樣片的NiCr/NiSi薄膜均由磁控濺射均由磁控濺射沉積,另一部分樣片的NiCr薄膜由磁控濺

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

  ?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽(yáng)極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)