影響薄膜清洗污水處理設(shè)備沉淀的原因

時(shí)間：2022-05-13作者：山東廣晟環(huán)保科技有限公司瀏覽：228

影響薄膜清洗污水處理設(shè)備沉淀的原因：

1、池子很淺, 一般水位控制在600mm左右, 大大縮短了氣浮時(shí)間, 一般3～5min即可完成氣浮過(guò)程, 因此, 氣浮效率可比射流深池氣浮提高5倍以上。

2、布水均勻, 且釋放出的水直接上升, 基本無(wú)橫向流動(dòng), 避免了橫流對(duì)上浮作用的影響。
3、出漿*特, 采用連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)勺式匯漿器, 對(duì)上層積聚的懸浮物去除及時(shí), 且干擾很小, 避免了浮出物的重新下沉。
4、溶氣水的制造。其溶氣罐構(gòu)造*特, 體積很小, 但溶氣效果很好, 這是它**其他氣浮形式的關(guān)鍵所在。
5、釋放器有特色, 釋放均勻, 有利于提高氣浮效果。


6、靠近池底部有連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的沉淀物清除刮板, 便于及時(shí)清除 沉淀物, 保證了池底干凈及有效的氣浮水深。





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