芯片測試前期準備

    失效分析樣品準備:
    失效分析是芯片測試重要環(huán)節(jié),無論對于量產(chǎn)樣品還是設(shè)計環(huán)節(jié)亦或是客退品,失效分析可以幫助降低成本,縮短周期。
    常見的失效分析方法有Decap,X-RAY,IV,EMMI,F(xiàn)IB,SEM,EDX,Probe,OM,RIE等,因為失效分析設(shè)備昂貴,大部分需求單位配不了或配不齊需要的設(shè)備,因此借用外力,使用對外開放的資源,來完成自己的分析也是一種很好的選擇。我們選擇去外面測試時需要準備的信息有哪些呢?下面為大家整理一下:
    一、decap:寫清樣品尺寸,數(shù)量,封裝形式,材質(zhì),開封要求(若在pcb板上,較好提前拆下,pcb板子面較大有突起,會影響對芯片的保護)后續(xù)試驗。
    1.IC開封(正面/背面) QFP, QFN, SOT,TO, DIP,BGA,COB等
    2.樣品減?。ㄌ沾?,金屬除外)
    3.激光打標
    4.芯片開封(正面/背面)
    5.IC蝕刻,塑封體去除
    二、X-RAY:寫清樣品尺寸,數(shù)量,材質(zhì)(密度大的可以看到,密度小的直接穿透),重點觀察區(qū)域,精度。
    1.觀測DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip等不同封裝的半導(dǎo)體、電阻、電容等電子元器件以及小型PCB印刷電路板
    2.觀測器件內(nèi)部芯片大小、數(shù)量、疊die、綁線情況
    3.觀測芯片crack、點膠不均、斷線、搭線、內(nèi)部氣泡等封裝
    缺陷,以及焊錫球冷焊、虛焊等焊接缺陷
    三、IV:寫清管腳數(shù)量,封裝形式,加電方式,電壓電流限制范圍。實驗人員需要提前確認搭建適合的分析環(huán)境,若樣品不適合就不用白跑一趟了。
    1.Open/Short Test
    2.I/V Curve Analysis
    3.Idd Measuring
    4.Powered Leakage(漏電)Test
    四、EMMI:寫清樣品加電方式,電壓電流,是否是裸die,是否已經(jīng)開封,特殊要求等,EMMI是加電測試,可以連接各種源表,確認加電要求,若實驗室沒有適合的源表,可以自帶,避免做無用功。
    1.P-N接面漏電;P-N接面崩潰
    2.飽和區(qū)晶體管的熱電子
    3.氧化層漏電流產(chǎn)生的光子激發(fā)
    4.Latch up、Gate Oxide Defect、Junction Leakage、
    Hot Carriers Effect、ESD等問題
    五、FIB:寫清樣品尺寸,材質(zhì),導(dǎo)電性是否良好,若尺寸較大需要事先裁剪。一般樣品臺1-3cm左右,太大的樣品放不進去,也影像定位,導(dǎo)電性好的樣品分析較快,導(dǎo)電性不好的,需要輔助措施才能較好的分析。切點觀察的,標清切點要求。切線連線寫清方案,發(fā)定位文件。
    
    1.芯片電路修改和布局驗證
    2.Cross-Section截面分析
    3.Probing Pad
    4.**切割
    六、SEM:寫清樣品尺寸,材質(zhì),導(dǎo)電性是否良好,若尺寸較大需要事先裁剪。一般樣品臺1-3cm左右,太大的樣品放不進去,也影像定位,導(dǎo)電性好的樣品分析較快,導(dǎo)電性不好的,需要輔助措施才能較好的分析。
    1.材料表面形貌分析,微區(qū)形貌觀察
    2.材料形狀、大小、表面、斷面、粒徑分布分析
    3.薄膜樣品表面形貌觀察、薄膜粗糙度及膜厚分析
    4.納米尺寸量測及標示
    七、EDX:寫清樣品尺寸,材質(zhì),EDX是定性分析,能看到樣品的材質(zhì)和大概比例,適合金屬元素分析。
    1.微區(qū)成分定性分析
    八、Probe:寫清樣品測試環(huán)境要求,需要搭配什么源表,使用什么探針,一般有硬針和軟針,軟針較細,不易對樣品造成二次損傷。
    1.微小連接點信號引出
    2.失效分析失效確認
    3.FIB電路修改后電學(xué)特性確認
    4.晶圓可靠性驗證
    九、OM:寫清樣品情況,對放大倍率要求。OM屬于表面觀察,看不到內(nèi)部情況。
    1.樣品外觀、形貌檢測
    2.制備樣片的金相顯微分析
    3.各種缺陷的查找
    4.晶體管點焊、檢查
    十、RIE:寫清樣品材質(zhì),需要看到的區(qū)域。
    1.用于對使用氟基化學(xué)的材料進行各向同性和各向異性蝕刻,其中包括碳、環(huán)氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、光阻劑、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢鈦以及鎢
    2.器件表面圖形的刻蝕?
    
    北京芯片失效分析實驗室介紹
    IC失效分析實驗室
    北軟檢測智能產(chǎn)品檢測實驗室于2015年底實施運營,能夠依據(jù)**、國內(nèi)和行業(yè)標準實施檢測工作,開展從底層芯片到實際產(chǎn)品,從物理到邏輯全面的檢測工作,提供芯片預(yù)處理、側(cè)信道攻擊、光攻擊、侵入式攻擊、環(huán)境、電壓毛刺攻擊、電磁注入、放射線注入、物理安全、邏輯安全、功能、兼容性和多點激光注入等安全檢測服務(wù),同時可開展模擬重現(xiàn)智能產(chǎn)品失效的現(xiàn)象,找出失效原因的失效分析檢測服務(wù),主要包括點針工作站(Probe Station)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、微漏電偵測系統(tǒng)(EMMI)、X-Ray檢測,缺陷切割觀察系統(tǒng)(FIB系統(tǒng))等檢測試驗。實現(xiàn)對智能產(chǎn)品質(zhì)量的評估及分析,為智能裝備產(chǎn)品的芯片、嵌入式軟件以及應(yīng)用提供質(zhì)量保證。

    儀準科技(北京)有限公司專注于手動探針臺,probe,station等

  • 詞條

    詞條說明

  • 產(chǎn)業(yè)*解讀功率半導(dǎo)體行業(yè)

    *簡介三年以上**半導(dǎo)體企業(yè)工作經(jīng)驗,曾任職于Infineon(英飛凌)、Nexperia(安世),對功率半導(dǎo)體行業(yè)有著深刻的洞察力。紀要內(nèi)容功率半導(dǎo)體的分類,*三代半導(dǎo)體材料特性,市場的信息,**的一些主流的玩家,國內(nèi)上升趨勢非常好的一些公司。 目前**的功率半導(dǎo)體器件主要由歐洲、美國、日本三個國家和地區(qū)提供,他們憑借**的技術(shù)和生產(chǎn)制造工藝,以及良好的品質(zhì)管理體系,大約占據(jù)了**70%的市場

  • 半導(dǎo)體技術(shù)公益課講師征集

    名稱:半導(dǎo)體技術(shù)公益課講師征集 時間:每周五下午5-7點 時長:不限 方式:直播分享 演講者可以準備ppt,發(fā)來題目,框架,時長,個人簡介,協(xié)調(diào)好時間后即可安排。 想做線上分享的,可以聊您擅長的領(lǐng)域,半導(dǎo)體相關(guān)的都歡迎,話題,時長不限 名稱:半導(dǎo)體技術(shù)公益課講師征集 時間:每周五下午5-7點 時長:不限 方式:直播分享 演講者可以準備ppt,發(fā)來題目,框架,時長,個人簡介,協(xié)調(diào)好時間后即可安排。

  • 芯片失效分析方法

    1 、C-SAM(超聲波掃描顯微鏡),無損檢查:1.材料內(nèi)部的晶格結(jié)構(gòu),雜質(zhì)顆粒.夾雜物.沉淀物.2. 內(nèi)部裂紋. 3.分層缺陷.4.空洞,氣泡,空隙等. 德國 2 、X-Ray(這兩者是芯片發(fā)生失效后首先使用的非破壞性分析手段),德國Fein 微焦點Xray用途:半導(dǎo)體BGA,線路板等內(nèi)部位移的分析 ;利于判別空焊,虛焊等BGA焊接缺陷. 參數(shù):標準檢測分辨率<500納米 ;幾何放大倍數(shù): 2

  • 中國大陸半導(dǎo)體材料市場的新突破

    半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ),它融合了當代眾多學(xué)科的**成果,在半導(dǎo)體制造技術(shù)不斷升級和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新發(fā)展中扮演著重要角色。半導(dǎo)體技術(shù)每前進一步都對材料提出新的要求,而材料技術(shù)的每一次發(fā)展也都為半導(dǎo)體新結(jié)構(gòu)、新器件的開發(fā)提供了新的思路。2019年,國內(nèi)半導(dǎo)體材料在各方共同努力下,部分中**領(lǐng)域**可喜突破,國產(chǎn)化進一步提升。 行業(yè)整體影響下,市場規(guī)模小幅下滑 受行業(yè)整體不景氣影響,2019年全

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