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10 噸反滲透設(shè)備一、設(shè)備概述10 噸反滲透設(shè)備是一種能夠每日生產(chǎn) 10 噸純水的水處理裝置。它主要基于反滲透技術(shù),通過對原水施加一定壓力,使水通過半透膜,從而去除水中的雜質(zhì)、鹽分、有機物和微生物等,生產(chǎn)出高質(zhì)量的純水。這種設(shè)備廣泛應用于電子、制藥、化工、食品飲料、電力等眾多行業(yè),以及對水質(zhì)要求較高的場所,如實驗室、醫(yī)院等。二、工作原理反滲透原理反滲透膜是 10 噸反滲透設(shè)備的核心部件,其孔徑非常
防止水垢形成水垢產(chǎn)生原理:水中含有鈣、鎂等離子,在加熱或與其他物質(zhì)接觸過程中,這些離子會結(jié)合形成碳酸鈣(CaCO?)、碳酸鎂(MgCO?)、氫氧化鎂(Mg (OH)?)等沉淀物,這就是水垢。例如,在熱水鍋爐中,當水被加熱時,水中的鈣、鎂離子會在鍋爐內(nèi)壁逐漸沉積,形成堅硬的水垢。水垢的導熱性很差,會降低熱傳遞效率。據(jù)統(tǒng)計,水垢厚度達到 1 - 2 毫米時,燃料消耗會增加 5 - 8%。軟化水設(shè)備工作
軟化水設(shè)備在工業(yè)生產(chǎn)中有哪些應用?
鍋爐行業(yè)防止結(jié)垢問題:在工業(yè)鍋爐中,水被加熱產(chǎn)生蒸汽用于驅(qū)動渦輪機、提供熱量等多種用途。如果使用硬水,水中的鈣、鎂等離子會在鍋爐受熱面(如管壁)上形成水垢。例如,碳酸鈣(CaCO?)和氫氧化鎂(Mg (OH)?)等水垢的導熱系數(shù)比金屬低很多,會大大降低熱傳遞效率。據(jù)估算,水垢厚度達到 1 - 2 毫米時,燃料消耗可能會增加 5 - 8%。軟化水設(shè)備通過去除水中的鈣、鎂離子,能有效防止水垢在鍋爐內(nèi)部
電子工業(yè)領(lǐng)域半導體制造:在半導體芯片的生產(chǎn)過程中,幾乎每一個環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機物和微生物對芯片制造過程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠為光刻膠的
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
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