焦離子束工作原理:
聚焦離子束顯微鏡(FIB)的利用鎵(Ga)金屬作為離子源,再加上負(fù)電場 (Extractor) 牽引**細(xì)小的鎵原子,而導(dǎo)出鎵離子束再以電透鏡聚焦,經(jīng)過一連串可變孔徑光闌,決定離子束的大小,再經(jīng)過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面,利用物理碰撞來進(jìn)行特定圖案的加工,一般單粒子束的FIB(Single Beam FIB),可以提供材料切割、沉積金屬、蝕刻金屬和選擇性蝕刻氧化層等功能。若結(jié)合場**式電子顯微鏡進(jìn)行實時觀測,即所謂的雙粒子束FIB(Dual Beam FIB) 。
聚焦離子束應(yīng)用:
(1) 形貌和成分分析:FIB可以對納米顆粒材料表面進(jìn)行形貌觀察,還可以在特定位置作截面斷層,直觀的進(jìn)行材料的截面結(jié)構(gòu)形態(tài)的**分析,觀察結(jié)構(gòu)是否存在缺陷等異常。
(2) 制備TEM、3DAP、EBSD樣品:FIB因其樣品制備精度高、速度快已經(jīng)成為特殊樣品制備、精細(xì)結(jié)構(gòu)加工的重要方法。其中制備TEM截面樣品就是其中重要用途。FIB制備的TEM樣品厚度在100nm以下,且成功率很高,所以經(jīng)常用來制備薄膜、陶瓷等塊體的TEM樣品。此外,電子束無法穿透的微米級顆粒,也可用FIB制備一個薄截面樣品再進(jìn)行TEM測試。
(3) 三維表征技術(shù)(FIB-HIM): 在掃描電鏡中可以獲得觀察區(qū)域的表面形貌、化學(xué)成分、晶體取向等信息。三維重構(gòu)(3D)允許從各個角度觀察樣品,尤其當(dāng)樣品中有一些網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),不同的相交織在一起,利用FIB三維成像可將它們內(nèi)部的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)清晰的表征出來,甚至重構(gòu)樣品里小缺陷(<100nm)的三維形狀和尺寸。
成分分析 深圳形貌和成分分析 啟威測檢測
詞條
詞條說明
焦離子束工作原理:? 聚焦離子束顯微鏡(FIB)的利用鎵(Ga)金屬作為離子源,再加上負(fù)電場?(Extractor)?牽引**細(xì)小的鎵原子,而導(dǎo)出鎵離子束再以電透鏡聚焦,經(jīng)過一連串可變孔徑光闌,決定離子束的大小,再經(jīng)過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面,利用物理碰撞來進(jìn)行特定圖案的加工,一般單粒子束的FIB(Single Beam FIB),可以提供材料切割、沉積金屬、
X射線光譜方法測定覆蓋層厚度是基于一束強(qiáng)烈而狹窄的多色X射線與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長和能量的二次輻射,這些二次輻射具有構(gòu)成覆蓋層和基體元素特征。覆蓋層單位面積質(zhì)量(若密度已知,則為覆蓋層線性厚度)和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知,同時又給出實際的密度,則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。測試設(shè)
表面形貌評定的**在于對特征信號無失真的提取和對使用性能的量化評定,國內(nèi)外學(xué)者在這一方面做了?大量工作,提出了許多分離與重構(gòu)方法。隨著當(dāng)今微機(jī)處理技術(shù)、集成電路技術(shù)、機(jī)電一體化技術(shù)等的發(fā)展。出現(xiàn)了用分形法、Motif法、功能參數(shù)集法、時間序列技術(shù)分析法、小二乘多項式擬合法、濾波法等各種評定理論與方法,**了顯著進(jìn)展。表面是由粗糙度,波紋度和表面形狀誤差3個部分構(gòu)成的。隨著現(xiàn)代測量精度的不
表面分析檢測項目:?材料表面(薄膜)基本力學(xué)性能(納米壓痕儀)?材料的硬度(顯微硬度計)?薄膜與基體的結(jié)合力(大載荷劃痕儀,納米劃痕儀)?抗摩擦磨損能力(摩擦磨損試驗機(jī),劃痕儀)?表面應(yīng)力分析(X 射線衍射儀,納米壓痕 model 軟件)?材料物理化學(xué)性能:?耐腐蝕性能(鹽霧試驗機(jī))?電化學(xué)性能(電化學(xué)工作站)&nbs
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