離子鍍膜設備廠家量大從優(yōu)“本信息長期有效”

時間：2020-03-05

作者：東莞市至成真空科技有限公司

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、器械、儀器儀表等領域。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備在真空條件下采用物理氣相沉積技術，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術、柱形靶及磁控油射離子鍍技術**結合在一起，可單獨使用或同時使用，制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備制造簡單，使用方便，運行成本低無污染，經(jīng)濟效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節(jié)省投資。

真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?

真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術，離子鍍膜技術不僅僅在國內受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的？下面至成小編為大家詳細介紹一下：

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。

離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會用拋光、拉絲、噴砂、化學蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機啟到了很關鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。

其實大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢和劣勢。如：拋光作業(yè)會在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結劑，或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮；噴砂會有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學蝕刻會有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護物質；激光雕刻處理會產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機床雕刻會有高溫氧化皮和切削油殘留，還會有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會導致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會生成難以去除的復雜氧化物，這些處理引起的污染不徹底清除會導致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這較增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調整清洗工藝，對不同的污染，可選擇機械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對性的高效清洗劑等等。這些綜合措施可**較好的效果，但對有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應用到鍍前清洗是值得關注的技術，該技術在某些鍍層的褪鍍**良好效果。

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光學薄膜的定義由薄的分層介質構成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐活惞鈱W介質材料，光學薄膜的應用始于20世紀30年代，光學薄膜已經(jīng)廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。制備條要求件高而精。光學薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或偏
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什么是鍍膜機鍍膜的均勻性均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。在光學薄膜的尺度上看，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內。原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在對于多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)